| 发明名称 | 沉积方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种在基板上沉积的沉积方法，包括以下步骤：使用将前体加入超临界态介质而制成的加工介质。将该前体加入超临界态介质中，而该前体是溶解于有机溶剂中的。 | ||
| 申请公布号 | CN1763242A | 申请公布日期 | 2006.04.26 |
| 申请号 | CN200510109502.9 | 申请日期 | 2005.10.19 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社;近藤英一 | 发明人 | 成岛正树;松泽兴明;小宫隆行;近藤英一 |
| 分类号 | C23C16/00(2006.01);C23C16/02(2006.01);C23C16/14(2006.01);C23C16/44(2006.01) | 主分类号 | C23C16/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种在基板上沉积的沉积方法，包括以下步骤：使用将前体加入超临界态介质而制成的加工介质；其中将所述前体加入所述超临界态介质中，而所述前体是溶解于有机溶剂中的。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||