发明名称 用于校准装置的方法、用于校准多个并排放置的装置的方法以及适于实施这种方法的物体
摘要 一种用于校准包括照相机的至少一个装置(2)的方法,其中使具有至少一个基准元件(4、11、12、13、14)的物体(3、10)进入所述照相机的成像区域内。从所述照相机得到的图像(5、6、8、9、15、16)中确定所述基准元件(4、11、12、13、14)相对于所述装置(2)的第一位置。随后对所述物体(3、10)施加相对于所述装置(2)的位移。从所述照相机得到的第二图像(5、6、8、9、15、16)中确定所述基准元件(4、11、12、13、14)相对于所述装置(2)的第二位置。由所述第一和第二相对位置确定所述物体(3、10)(3)相对于所述装置(2)的实际位移,将所述实际位移与所述施加的位移进行比较。
申请公布号 CN1765012A 申请公布日期 2006.04.26
申请号 CN200480008041.X 申请日期 2004.03.19
申请人 阿森姆布里昂股份有限公司 发明人 J·L·霍里乔恩;A·德博克;R·M·A·L·佩蒂特
分类号 H01L21/68(2006.01) 主分类号 H01L21/68(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 廖凌玲;黄力行
主权项 1、一种用于校准至少一个包括照相机的装置(2)的方法,其特征在于,使具有至少一个基准元件(4、11、12、13、14)的物体(3、10)进入所述照相机的成像区域内,其后从所述照相机得到的图像(5、6、8、9、15、16)中确定所述基准元件(4、11、12、13、14)相对于所述装置(2)的第一位置,随后对所述物体(3、10)施加相对于所述装置(2)的位移,从所述照相机得到的第二图像(5、6、8、9、15、16)中确定所述基准元件(4、11、12、13、14)相对于所述装置(2)的第二位置,其后由所述第一和第二相对位置确定所述物体(3、10)(3)相对于所述装置(2)的实际位移,将所述实际位移与所述施加的位移进行比较。
地址 荷兰费尔德霍芬