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经营范围
发明名称
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND BLACK MATRIX
摘要
申请公布号
KR100574321(B1)
申请公布日期
2006.04.26
申请号
KR19990003780
申请日期
1999.02.04
申请人
发明人
分类号
G03F7/004;G03F7/027
主分类号
G03F7/004
代理机构
代理人
主权项
地址
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