发明名称 PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND BLACK MATRIX
摘要
申请公布号 KR100574321(B1) 申请公布日期 2006.04.26
申请号 KR19990003780 申请日期 1999.02.04
申请人 发明人
分类号 G03F7/004;G03F7/027 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
地址