发明名称 | 蚀刻液组合物 | ||
摘要 | 本发明提供一种蚀刻液组合物,该组合物含有透明导电膜用蚀刻液,以及从聚磺酸化合物和聚氧化乙烯-聚氧化丙烯嵌段共聚物构成的物质组中选取的一种或两种以上的化合物。该蚀刻液对发泡性具有抑制作用,而且蚀刻后不产生残渣。 | ||
申请公布号 | CN1253527C | 申请公布日期 | 2006.04.26 |
申请号 | CN01142051.0 | 申请日期 | 2001.09.07 |
申请人 | 关东化学株式会社 | 发明人 | 石川典夫;森清人 |
分类号 | C09K13/04(2006.01) | 主分类号 | C09K13/04(2006.01) |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 过晓东 |
主权项 | 1、一种蚀刻液组合物,其含有包含草酸水溶液的透明导电膜用蚀刻液,以及聚磺酸化合物和聚氧化乙烯-聚氧化丙烯嵌段共聚物之中的一种或两种以上的化合物。 | ||
地址 | 日本东京 |