| 主权项 |
1.一种模内装饰射出成型之制程,包括下列步骤: 提供一塑料基材; 形成一第一金属薄膜于该塑料基材上; 形成一第二金属薄膜于该第一金属薄膜上; 形成一油墨于该第二金属薄膜上; 于该塑料基材上预成型多数个成型单元; 裁切该塑料基材,以成为各自独立之该些成型单元 ;以及 进行一塑料射出之步骤,以包覆一成型单元上之该 第一金属薄膜、该第二金属薄膜与该油墨以及该 成型单元所暴露之表面。 2.如申请专利范围第1项所述之模内装饰射出成型 之制程,其中该塑料基材系为一透光薄膜。 3.如申请专利范围第1项所述之模内装饰射出成型 之制程,其中该第一金属薄膜的厚度小于该第二金 属薄膜之厚度。 4.如申请专利范围第3项所述之模内装饰射出成型 之制程,其中该第一金属薄膜的厚度介于10奈米-1 微米之间。 5.如申请专利范围第3项所述之模内装饰射出成型 之制程,其中该第二金属薄膜的厚度介于100奈米-10 微米之间。 6.如申请专利范围第1项所述之模内装饰射出成型 之制程,其中该第一金属薄膜之材质系为铬。 7.如申请专利范围第1项所述之模内装饰射出成型 之制程,其中该第二金属薄膜之材质包括铝、镍以 及铁其中之一。 8.如申请专利范围第1项所述之模内装饰射出成型 之制程,其中形成该第一金属薄膜的方式包括以化 学湿式反应性沈积(CVD)或物理真空反应性沈积(PVD) 所形成。 9.如申请专利范围第1项所述之模内装饰射出成型 之制程,其中形成该第二金属薄膜的方式包括以化 学湿式反应性沈积(CVD)或物理真空反应性沈积(PVD) 所形成。 10.如申请专利范围第1项所述之模内装饰射出成型 之制程,其中形成该第一金属薄膜之后,更包括微 影蚀刻该第一金属薄膜,以形成一图案化第一金属 薄膜。 11.如申请专利范围第1项所述之模内装饰射出成型 之制程,其中形成该第二金属薄膜之后,更包括微 影蚀刻该第二金属薄膜,以形成一图案化第二金属 薄膜。 12.如申请专利范围第1项所述之模内装饰射出成型 之制程,其中形成该油墨的方式包括网版印刷。 图式简单说明: 图1至图6分别绘示本发明一较佳实施例之一种模 内装饰射出成型之制程的剖面示意图。 |
