发明名称 无电金属电镀之方法
摘要 一种无电金属电镀基板(特别是具非导电表面者),藉此基板可在同样之制造条件低成本下可靠地镀上金属,且藉此能选择性地覆盖仅欲处理之基板而非架子之表面。此法包括下列步骤:a.以含铬酸根离子之溶液酸浸表面;b.以含亚锡离子之银胶体活化该酸之表面;c.以加速液处理该活化之表面以移除该表面上锡化合物;及d.以无电镍电镀浴镀上基本上由镍组成之一层至该经加速液处理之表面,无电镍电镀浴含有至少一种选自硼烷化合物之还原剂。
申请公布号 TWI253481 申请公布日期 2006.04.21
申请号 TW090125100 申请日期 2001.10.11
申请人 艾托特克公司 发明人 马力欧拉 布莱德斯;荷曼 米德克;布力吉特 戴布奇
分类号 C23C18/34 主分类号 C23C18/34
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种无电电镀塑胶表面之方法,其包括下列方法 步骤: a.以含铬酸根离子之溶液酸浸表面; b.以含亚锡离子之银胶体活化该酸之表面; c.以加速液处理该活化之表面以移除该表面上锡 化合物,其中该加速液含有氟离子且另外含有甲烷 磺酸根阴离子; d.以无电镍电镀浴镀上基本上由镍组成之一层至 该经加速液处理之表面,无电镍电镀浴含有至少一 种选自硼烷化合物之还原剂。 2.如申请专利范围第1项之方法,其中该加速液之pH 至多为7。 3.如申请专利范围第1及2项中任一项之方法,其中 该加速液之pH至多为2。 4.如申请专利范围第1及2项中任一项之方法,其中 该加速液另外含有选自铜离子、铁离子及钴离子 之金属离子。 5.如申请专利范围第1及2项中任一项之方法,其中 该加速液不含氯离子。 6.如申请专利范围第1及2项中任一项之方法,其中 该银胶体另外含有甲烷磺酸阴离子。 7.如申请专利范围第1及2项中任一项之方法,其中 该银胶体另外含有至少一种额外之还原剂。 8.如申请专利范围第7项之方法,其中另外含有至少 一种额外还原剂选自羟基苯基化合物、联胺及其 衍生物。
地址 德国