| 主权项 |
1.一种检测覆晶基板之定位方法,包含有下列步骤: A、提供一检测设备,具有一上检测头、一下检测 头、一承座、以及一摄影机,该上检测头及该下检 测头均可于X轴方向、Y轴方向、Z轴方向上位移,且 可水平旋转角度,该承座可于一第一位置及一第 二位置间位移,当该承座位于该第二位置时,系位 于该上检测头与该下检测头之间,该承座中央具有 一镂空部位,可供该下检测头由下方进入,该承座 可相对于该摄影机于该第一位置及一第三位置间 位移; B、设定基准位置:备置一基准覆晶基板,具有二定 位标记,将该基准覆晶基板置于该承座上,于该承 座位于该第二位置时,调整该上检测头及该下检测 头,使该二检测头对正于基准覆晶基板,于该承座 分别位于该第一位置及该第三位置时,该二定位标 记系分别对正于该摄影机,并纪录此基准位置; C、待检测覆晶基板定位:将一待检测覆晶基板置 于该承座上,调整该承座分别位于该第一位置及该 第三位置,供该摄影机分别对该待检测覆晶基板之 二定位标记分别进行取像; D、比对该待检测覆晶基板与该基准覆晶基板之二 定位标记之位置,可得出各个定位标记在X轴座标 及Y轴座标的差距,藉此得到待检测覆晶基板相对 于基准位置之X轴、Y轴、以及角度之差; E、使该承座位于该第二位置,将该上检测头及该 下检测头依前述步骤所得之X轴、Y轴、以及角 度之差进行位移及旋转,藉以补偿误差,进而使该 上检测头及下检测头对准该待检测覆晶基板; 藉由上述步骤,可达成待检测覆晶基板在检测前的 定位。 2.依据申请专利范围第1项所述之检测覆晶基板之 定位方法,其中:该摄影机系为一CCD(电荷耦合装置) 摄影镜头。 3.依据申请专利范围第1项所述之检测覆晶基板之 定位方法,其中:于取像时,该摄影机系位于定位标 记的正上方。 4.依据申请专利范围第1项所述之检测覆晶基板之 定位方法,其中:该承座位于该第一位置时系用以 进/出料,位于该第二位置时系使待检测覆晶基板 供检测。 图式简单说明: 第一图系本发明一较佳实施例之结构示意图,显示 上测试头、承座、以及下测试头间之空间形态; 第二图A系本发明一较佳实施例之动作示意图,显 示承座位于第一位置时之状态; 第二图B系本发明一较佳实施例之动作示意图,显 示承座位于第三位置时之状态; 第三图系本发明一较佳实施例之实施状态示意图, 显示承座于第一位置之状态; 第四图系本发明一较佳实施例之实施状态示意图, 显示承座于第二位置之状态。 |
