发明名称 光学系统,尤指用于微石版印刷投影曝光设备
摘要 本发明系有关一种光学系统,尤指用于微石版印刷投影曝光设备,尤其是具缝隙状场或非旋转对称照明,包括一被镶嵌在一镜框(2)中之透镜(1),尤其是一透镜或一反射镜,及作用于镜框及/或透镜(1)之调节器。调节器(3)施予透镜(1)非旋转对称且非径向之力及/或力矩,以产生无厚度变化之弯曲。
申请公布号 TWI253509 申请公布日期 2006.04.21
申请号 TW088110136 申请日期 1999.06.17
申请人 卡尔蔡司SMT股份公司 发明人 艾文哥伯;米歇尔格哈德;克里斯丁华格纳;艾利希美兹;胡伯特赫德尔
分类号 G02B27/00;G03F7/20 主分类号 G02B27/00
代理机构 代理人 蔡清福 台北市中正区忠孝东路1段176号9楼
主权项 1.一种光学系统,尤指用于微石版印刷投影曝光设 备,尤其是具缝隙状场或非旋转对称照明,包括一 被镶嵌在一镜框中之光学元件,尤其是一透镜或一 反射镜,及作用于镜框及/或光学元件之调节器,其 特征在于,调节器(3)施予透镜(1)非旋转对称且非径 向之力及/或力矩,以产生无厚度变化之弯曲。 2.如申请专利范围第1项所述之光学系统,其中调节 器(3)作用于透镜(1)的可变形镜框(2),使得镜框(2)对 透镜(1)产生剪力及/或挠矩。 3.如申请专利范围第2项所述之光学系统,其中设至 少两相对调节器(3)。 4.如申请专利范围第3项所述之光学系统,其中两相 对调节器(3)产生平行于光轴的剪力及/或力矩,两 旋转90的调节器(3)产生相反方向之剪力及/或力矩 。 5.如申请专利范围第2或3项所述之光学系统,其中 调节器(3)具液压、机械或电操作调整件。 6.如申请专利范围第5项所述之光学系统,其中两相 对调节器(3)产生平行于光轴的剪力及/或力矩,两 旋转90的调节器(3)产生相反方向之剪力及/或力矩 。 7.如申请专利范围第1项所述之光学系统,其中调节 器(3)为压电调节器,其直接或经中间件(6)而作用于 透镜(1)。 8.如申请专利范围第7项所述之光学系统,其中在框 架(5)或镜框的环形台上分散设置多个压电调节器( 3),使得压电调节器(3)产生至少接近平行于光轴的 剪力及/或力矩。 9.如申请专利范围第7或8项所述之光学系统,其中 在压电调节器(3)与透镜(1)之间设一透镜垫(6)。 10.如申请专利范围第9项所述之光学系统,其中透 镜垫(6)至少接近楔形。 11.一种如申请专利范围第1至10项任一项所述之光 学系统,其中调节器具传动装置,最好设固体接头 。 图式简单说明: 图1系设本发明调节器之光学元件的俯视图。 图2系图1线II-II之截面图。 图3系设本发明调节器之光学元件的第二实施例。 图4系图3线IV-IV之截面图。 图5系设本发明调节器之光学元件的第三实施例。 图6系图5线VI-VI之截面图。 图7系图2,4及6截面之半截面图,显示调节器另一实 施型式。
地址 德国