| 主权项 |
1.一种自氢过氧化异丙苯裂解产物混合物除去杂 质的方法,其包括: 在足形成杂质之水溶性经氧化衍生物(32)的温度和 时间下使在盐水相(26)中之杂质与氧化剂(30)反应; 含有氧化剂(30)及水溶性经氧化衍生物(32)之盐水 相(26)与氢过氧化异丙苯裂解产物混合物(16)结合 以进一步氧化在经结合之产物混合物中的杂质;且 自经结合之产物混合物(16)分离含有杂质之水溶性 经氧化衍生物(32)的盐水相。 2.如申请专利范围第1项之方法,其进一步包括以足 以最适化杂质之氧化的速率循环盐水相(26)。 3.如申请专利范围第1项之方法,其进一步包括转化 大于40%杂质成水溶性经氧化衍生物(32)。 4.如申请专利范围第1项之方法,其进一步包括转化 大于约60%之杂质成水溶性经氧化衍生物。 5.如申请专利范围第1项之方法,其进一步包括转化 大于约90%之杂质成水溶性经氧化衍生物。 6.如申请专利范围第1项之方法,其中杂质选自由 基氧化物,乙醛,羟基丙酮,含羰基杂质,含醛基杂质 及包括至少一前述杂质之结合物所组成之群中。 7.如申请专利范围第1项之方法,其中氧化剂(30)存 在量足以氧化杂质。 8.如申请专利范围第1项之方法,其中氧化剂(30)存 在量足以维持约3至约6之pH。 9.如申请专利范围第1项之方法,其中氧化剂(30)存 在量足以维持约4至约5之pH。 10.如申请专利范围第1项之方法,其中盐水相(26)进 一步包括约10至约20wt%硫酸钠溶液。 11.如申请专利范围第1项之方法,其中氧化剂(30)选 自由氧,过氧化氢,过氧化钠,过锰酸钾及过锰酸钠 组成之群中。 12.如申请专利范围第1项之方法,其中温度约80至约 140℃。 13.如申请专利范围第1项之方法,其中反应进一步 包括应用约0.5至约5atm之压力。 14.如申请专利范围第1项之方法,其中时间约0.5至 约1.5小时。 15.一种自氢过氧化异丙苯裂解产物混合物中去除 杂质的方法,其包括 含有杂质之盐水相(26)与量足以维持反应之pH在约3 至约6下的氧化剂(30)反应以形成杂质之水溶性经 氧化衍生物(32),其中反应包括在约80至约140℃温度 下在对反应混合物施以约1atm至约5atm之压力下加 热含有水溶性经氧化衍生物(32)和氧化剂(30)之盐 水相约0.5至约1.5小时; 结合含有氧化剂(30)和水溶性经氧化衍生物(32)之 盐水相(26)与氢过氧化异丙苯裂解产物混合物(16) 以进一步氧化在经结合之产物混合物(16)中之杂质 ;且 自经结合之产物混合物(16)中分离含有杂质之水溶 性经氧化衍生物(32)的盐水相(26)。 16.如申请专利范围第15项之方法,其中氧化剂(30)选 自由氧,过氧化氢,过氧化钠,过锰酸钾和过锰酸钠 组成之群中。 17.如申请专利范围第15项之方法,其中氧化剂(30)以 足以维持反应之pH在约4至约5之量存在。 18.如申请专利范围第15项之方法,其中杂质选自由 基氧化物,乙醛,羟基丙酮,含羰基杂质,含醛杂质及 包括至少一前述杂质之结合物所组成之群中。 19.一种用于纯化氢过氧化异丙苯裂解产物混合物 的系统,其包括: 一种使含杂质之盐水相(26)与氧化剂(30)在足以形 成杂质之水溶性经氧化衍生物(32)的温度和时间下 反应用的装置; 一种结合含氧化剂(30)和水溶性经氧化衍生物(32) 的盐水相(26)与氢过氧化裂解产物混合物(16)以进 一步氧化在经结合产物混合物(16)中之杂质用的装 置;及 自经结合之产物混合物(16).中分离含杂质之水溶 性经氧化衍生物(32)的盐水相(26)用的装置。 20.如申请专利范围第19项之系统,其进一步包括结 合含水溶性经氧化衍生物(32)之盐水相(26)与氢过 氧化异丙苯裂解产物混合物(16)用之装置。 21.如申请专利范围第19项之系统,其进一步包括自 经结合之盐水相(26)/氢过氧化异丙苯裂解产物混 合物(16)去除经氧化衍生物(32)用的装置。 22.一种用于纯化氢过氧化异丙苯裂解产物混合物 的系统,其包括: 含有杂质之氢过氧化异丙苯裂解产物混合物进料( 16)与硷性水溶液进料(18)有流体连络; 氢过氧化异丙苯裂解产物混合物(16)和硷性水溶液 进料(18)与具有盐水相出口(24)之中和转筒(20)有流 体连络; 含杂质之盐水相进料(26)与具有经氧化之盐水相出 口(32)之分解反应器(28)有流体连络; 氧化剂进料(30)与含杂质之盐水相进料(26)在分解 反应器(28)之前有流体连络;及 含杂质之水溶性经氧化衍生物的经氧化盐水相进 料(32)与氢过氧化异丙苯裂解产物混合物(16)在中 和转筒(20)前有流体连络。 23.如申请专利范围第22项之系统,其中中和转筒(20) 与分解反应器(28)有流体连络且顺序安置于彼之前 。 24.如申请专利范围第22项之系统,其中中和转筒(20) 其有一盐水相清洗物出口(24)及经中和之氢过氧化 异丙苯裂解产物混合物出口(22)。 25.如申请专利范围第22项之系统,其中氧化剂进料( 30)选自由氧,过氧化氢,过氧化钠,过锰酸钾和过锰 酸钠所组成之群中。 26.如申请专利范围第22项之系统,其中杂质选自由 -甲基苯乙烯,乙醯苯,二甲基醇,枯基酚, 基氧 化物,乙醛,羟基丙酮,含羰基杂质,含醛基杂质及包 括至少一前述杂质之结合物所组成之群中。 图式简单说明: 图1是一种概略的流程图,说明用以自氢过氧化异 丙苯裂解产物除去杂质的系统和方法的例示性实 体。 |
