光刻掩膜板的制造方法

摘要

一种光刻掩膜板的制造方法，在形成作为复制图案的薄膜的基板上通过旋转涂敷处理形成抗蚀性液的膜后，用外罩部件覆盖基板的表面，从该外罩部件的上方供给溶剂，一面使基板和外罩部件一体地旋转，一面向基板的周缘部供给溶剂，溶解去除抗蚀性膜的不要部分。在进行溶解去除抗蚀性膜的不要部分的不要膜去除处理之前，对通过旋转涂敷处理形成的抗蚀性膜进行为了抑制不要膜去除处理中的抗蚀性膜的面内膜厚均匀性的恶化的减压干燥处理。

主权项

1.一种光刻掩膜板的制造方法，在形成着作为复制图案的薄膜的带薄膜的基板上，通过旋转涂敷处理形成抗蚀性液的膜后，用外罩部件覆盖上述基板的表面，从该外罩部件的上方供给溶剂，一面使上述基板和上述外罩部件一体地旋转、一面将上述溶剂向上述基板的周缘部供给，以此溶解去除上述抗蚀性膜的不要部分，其特征在于，在溶解去除上述抗蚀性膜的不要部分的不要膜去除处理之前，对在上述旋转涂敷处理中形成的上述抗蚀性膜进行减压干燥处理，该减压干燥处理是为了抑制在上述不要膜去除处理中、上述抗蚀性膜的面内膜厚均匀性的恶化。