发明名称 |
利用可变像散聚焦光斑切割的系统和方法 |
摘要 |
利用有变形光束传递系统的激光器形成可变像散聚焦光斑。可变像散聚焦光斑可用于切割操作,例如,划线诸如发光二极管(LED)晶片的半导体晶片。典型的变形光束传递系统包含一系列光学元件,这些元件故意引入像散以产生沿两个主子午线分开的焦点,即,沿垂直和水平方向。像散焦点导致非对称但清晰聚焦的光斑,它是由尖锐的前沿和后沿构成。调整像散焦点可以改变压缩聚焦光斑的纵横比,在不影响激光输出功率的条件下可以调整目标物上的能量密度。利用适当优化的能量和功率密度划线晶片可以提高划线速度,而同时使过量加热和附属材料损伤减至最小。 |
申请公布号 |
CN1761549A |
申请公布日期 |
2006.04.19 |
申请号 |
CN200480007688.0 |
申请日期 |
2004.02.19 |
申请人 |
J.P.瑟塞尔联合公司 |
发明人 |
帕特里克·J.·瑟塞尔;杰弗里·P.·瑟塞尔;琼库克·帕克 |
分类号 |
B23K26/14(2006.01) |
主分类号 |
B23K26/14(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
蒋世迅 |
主权项 |
1.一种用于形成可变像散聚焦光斑以切割基片的方法,所述方法包括以下步骤:产生原始激光束;扩展所述原始激光束;改型所述扩展光束,使所述改型光束沿一个主子午线准直而沿另一个主子午线会聚;聚焦有两个分开焦点的所述改型光束,用于产生有伸长形状的像散聚焦光斑;和引导所述像散聚焦光斑到所述基片上,至少可以在所述基片中实现局部切割。 |
地址 |
美国新罕布什尔 |