中间掩模用基板及其制造方法,以及光刻掩模板及其制造方法

摘要

一种中间掩模用基板，被用于形成安装在步进曝光装置上使用的中间掩模，具有相互相对的主表面、侧面以及设置在主表面和侧面之间的倒角面，其特征在于，从主表面与倒角面的边界除去内侧3mm区域的平坦度测定区域上的平坦度小于等于0.5μm，并且，主表面与倒角面的边界上的基准面起的最大高度大于等于－1μm小于等于0μm。

主权项

1.一种中间掩模用基板，具有：相互相对设置的一组主表面，与该主表面直交、相互相对设置的两组侧面，以及被上述主表面和侧面夹住的倒角面，其特征在于，在上述基板的主表面上，从上述主表面与上述倒角面的边界除去内侧3mm区域的平坦度测定区域上的平坦度小于等于0.5μm，并且，上述主表面与上述倒角面的边界上的从基准面起的最大高度大于等于-1μm小于等于0μm。