发明名称 |
含有环烯烃聚合物及疏水非甾族多脂环添加剂的光刻胶组合物 |
摘要 |
一种酸催化正型光刻胶组合物,它可以用193nm波长射线成像,而且可以显影形成高分辨及高抗蚀性的光刻胶结构物,所述组合物可以采用环烯烃聚合物、光敏产酸剂及含多个酸不稳定性连接基团的疏水非甾族多脂环组份的混合物。所述环烯烃聚合物优选含有:i)带有极性官能团的环烯烃单元;ii)具有酸不稳定性基团的环烯烃单元,所述酸不稳定性基团能抑制碱水溶液中的溶解度。 |
申请公布号 |
CN1252541C |
申请公布日期 |
2006.04.19 |
申请号 |
CN00103850.8 |
申请日期 |
2000.03.03 |
申请人 |
国际商业机器公司 |
发明人 |
P·R·瓦拉纳斯;J·F·马尼斯卡科 |
分类号 |
G03F7/004(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
王景朝;王其灏 |
主权项 |
1.一种光刻胶组合物,包含(a)环烯烃聚合物,该环烯烃聚合物包含i)具有极性官能团的环烯烃单元,及ii)具有酸不稳定性基团的环烯烃单元,该酸不稳定性基团抑制碱水溶液中的溶解度,(b)光敏产酸剂,及(c)含多个酸不稳定性连接基的疏水非甾族多脂环组份,该疏水非甾族多脂环组份包含至少两个非甾族C7部分或更高级脂环部份。 |
地址 |
美国纽约州 |