| 发明名称 | 显象处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种显象处理装置，它具有：水平铺设用于大致水平地装载并输送被处理基片的输送部件而形成的输送通路；为在输送通路上输送该基片而驱动输送部件的输送驱动机构；具有一个或多个用于向在输送通路上的基片的被处理面供给显象处理用预定处理液的喷嘴的处理液供给机构；作为活动喷嘴地使处理液供给机构的至少一个喷嘴沿输送通路移动的喷嘴扫描机构；其中，当在输送通路上输送基片时，一边通过喷嘴扫描机构使至少一个所述喷嘴在与基片输送方向相反的方向上移动，一边将处理液供给所述被处理面。 | ||
| 申请公布号 | CN1252514C | 申请公布日期 | 2006.04.19 |
| 申请号 | CN02126281.0 | 申请日期 | 2002.06.07 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 宫崎一仁;佐田彻也 |
| 分类号 | G02F1/133(2006.01);B05C5/00(2006.01) | 主分类号 | G02F1/133(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 胡强;杨松龄 |
| 主权项 | 1、一种显象处理装置，它具有：水平铺设用于大致水平地装载并输送被处理基片的输送部件而形成的输送通路；为在所述输送通路上输送该基片而驱动所述输送部件的输送驱动机构；具有一个或多个用于向在所述输送通路上的该基片的被处理面供给显象处理用预定处理液的喷嘴的处理液供给机构；作为活动喷嘴地使所述处理液供给机构的至少一个喷嘴沿所述输送通路移动的喷嘴扫描机构；其中，当在所述输送通路上输送所述基片时，一边通过所述喷嘴扫描机构使至少一个所述喷嘴在与所述基片的输送方向相反的方向上移动，一边将处理液供给所述被处理面。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||