发明名称 | 抛光组合物以及使用该抛光组合物的抛光方法 | ||
摘要 | 一种抛光组合物,其包含:研磨剂如胶态二氧化硅、选自咪唑和咪唑衍生物中的至少一种化合物、以及水。该抛光组合物优选进一步包含碱性化合物、水溶性聚合物、或螯合剂。该抛光组合物适用于抛光如半导体基板等物体的边缘。 | ||
申请公布号 | CN1760307A | 申请公布日期 | 2006.04.19 |
申请号 | CN200510113455.5 | 申请日期 | 2005.10.14 |
申请人 | 福吉米株式会社 | 发明人 | 高见信一郎 |
分类号 | C09K3/14(2006.01);H01L21/304(2006.01) | 主分类号 | C09K3/14(2006.01) |
代理机构 | 上海市华诚律师事务所 | 代理人 | 徐申民;董红曼 |
主权项 | 1.一种用于抛光物体边缘的抛光组合物,其特征在于,含有:研磨剂;选自咪唑和咪唑衍生物中的至少一种化合物;以及水。 | ||
地址 | 日本国爱知县 |