| 发明名称 |
Attenuating phase shift mask blank and photomask |
| 摘要 |
The present invention relates to attenuating phase shift mask blanks for use in lithography, a method of fabricating such a mask blank.
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| 申请公布号 |
US7029803(B2) |
申请公布日期 |
2006.04.18 |
| 申请号 |
US20030655593 |
申请日期 |
2003.09.05 |
| 申请人 |
IBM |
发明人 |
BECKER HANS;BUTTGEREIT UTE;HESS GUNTER;GOETZBERGER OLIVER;SCHMIDT FRANK;SOBEL FRANK;RENNO MARKUS;CHEY S. JAY |
| 分类号 |
G01F9/00;G03F1/08;C23C14/10;C23C14/14;C23C14/34;C23C14/46;G03F1/00;H01L21/027 |
主分类号 |
G01F9/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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