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发明名称
微影制程、光罩及其制造方法
摘要
本发明提供一种具有波长缩短材料的光罩,可用于微影制程,其中一个例子的光罩包括一透明基板与一形成有至少一开口的吸收层,另外,光罩亦包括一波长缩短材料层,设置于上述开口之中。上述波长缩短材料层的厚度大约为介于上述吸收层的厚度与光线特定波长的10倍之间。另一例子为,光罩更包括一抗反射涂布层。
申请公布号
TW200612189
申请公布日期
2006.04.16
申请号
TW093131303
申请日期
2004.10.15
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
林本坚;陈政宏;陈俊光;高蔡胜;刘如淦;施仁杰
分类号
G03F1/14
主分类号
G03F1/14
代理机构
代理人
洪澄文;颜锦顺
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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