| 摘要 |
本发明系关于一种用于测量匀相分布在介质中之至少一种化合物V’之同一性或非同一性之方法，其系藉由a)将含有至少一种匀相分布之化合物V’的介质曝露于具有可变波长λ之分析辐射中，且b)藉助吸收、反射、放射及／或散射辐射来测量光谱量测函数I’(λ)，其中相关函数K(δλ,c’，c)系根据方程式I测量094125022-p01.bmp其中K(δλ,c’，c)表示视函数I’(λ,c’)及I(λ，c)之相对位移δλ及该至少一种化合物V’及V之浓度c’及c而定之相关性，c’表示匀相分布在介质中并具有已知或待检同一性的至少一种化合物V’之浓度，c表示匀相分布在介质中并具有已知同一性之至少一种化合物V之浓度，I’(λ,c’)表示在含有浓度c’的介质中至少一种匀相分布之化合物V’的量测函数，I(λ，c)表示在含有该浓度c的介质中，至少一种匀相分布之化合物V的比较函数，且N表示标准化因子且介于化合物V’与V之间之同一性或非同一性系藉助相关函数K(δλ,c’,c)测得。 |
