| 摘要 |
一种光阻组成物，其为含有式(1)、(2)及(3)之水解性矽烷单体混合物之共水解–缩合所得之聚矽氧烷树脂、酸产生剂、含氮有机化合物、溶剂所得之光阻组成物094128245-p01.bmp(式中，R^1为具有羟基，且该羟基所键结之碳原子再键结之碳原子上键结合计3个以上氟原子之有机基；R^3为被酸分解性保护基所保护之具有羧基的有机基；R^5为具有内酯环之有机基；R^2、R^4、R^6为烃基；X为水解性基；p为0或1；q为o或1；r为0或1)本发明之光阻组成物，显示出良好之解析度，于氧反应性蚀刻中，可解决与有机材料之下层膜之间未能取得蚀刻选择比之问题，因而适用ArF曝光中之2层光阻法。 |
