| 发明名称 | 画素结构及其修补方法 | ||
| 摘要 | 一种画素结构及其修补方法，其画素结构包括在形成扫瞄配线、闸极等元件时，同时形成作为修补用之第一修补图案及第二修补图案。而其修补方法是藉由雷射进行熔接以使上述之修补图案(或其中之一修补图案)与资料配线及画素电极成为短路，以解决修补讯号线断线或修补画素点不良之现象。 | ||
| 申请公布号 | TW200612461 | 申请公布日期 | 2006.04.16 |
| 申请号 | TW093129779 | 申请日期 | 2004.10.01 |
| 申请人 | 中华映管股份有限公司 | 发明人 | 刘文雄;任坚志;何建国 |
| 分类号 | H01L21/00 | 主分类号 | H01L21/00 |
| 代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
| 主权项 | |||
| 地址 | 台北市中山区中山北路3段22号 | ||