蒸镀设备及蒸镀制程

摘要

一种蒸镀制程，适用于一蒸镀设备，以将一蒸镀源蒸镀至一基板上。此蒸镀设备具有一纯化腔室与一蒸镀腔室，其中纯化腔室内配置有一加热装置，而蒸镀腔室内配置有一成膜装置。首先，提供蒸镀源于纯化腔室内，其中蒸镀源表面系形成一不纯物。然后，藉由加热装置加热蒸镀源，以使不纯物成为气体而与蒸镀源分离。接着，将蒸镀源移至蒸镀腔室内，以藉由成膜装置将蒸镀源蒸镀至基板上。因此，此蒸镀制程可在成膜之前除去不纯物，以提供较佳之制程良率。