发明名称 高分子化合物、正型光阻组成物及光阻图型之形成方法
摘要 本发明为提供一种正型光阻组成物,其为含有具下述式(1)或式(1)’所不结构单位所成群中所选出之1种以上单位(a1)、由含有其内酯之环式基的(α–低级烷基)丙烯酸酯所衍生之单位(a2)及,单位(a1)与单位(a2)以外之由含有具脂肪族环式基之非酸解离性溶解抑制基,且不含极性基之(α–低级烷基)丙烯酸酯所衍生之单位(a3)的高分子化合物,094119865-p01.bmp〔式中,R为氢原子、氟原子或碳数20以下之低级烷基或碳数20以下之氟化低级烷基,R^1为可具有取代基之20员环以下之环式基,n为0或1至5之整数,m为0或1〕。094119865-p02.bmp094119865-p01.bmp
申请公布号 TW200611916 申请公布日期 2006.04.16
申请号 TW094119865 申请日期 2005.06.15
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 木下洋平;岩井武
分类号 C08F20/28;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 C08F20/28
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本