发明名称 SEMICONDUCTOR STRUCTURE INCLUDING SIGE LAYER AND METHOD OF FABRICATING THE SAME
摘要
申请公布号 KR20060032092(A) 申请公布日期 2006.04.14
申请号 KR20040081105 申请日期 2004.10.11
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 KIM, YOUNG PIL;LEE, SUN GHIL;SHIN, YU GYUN;LEE, JONG WOOK;JUNG, IN SOO
分类号 H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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