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发明名称
SEMICONDUCTOR STRUCTURE INCLUDING SIGE LAYER AND METHOD OF FABRICATING THE SAME
摘要
申请公布号
KR20060032092(A)
申请公布日期
2006.04.14
申请号
KR20040081105
申请日期
2004.10.11
申请人
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
发明人
KIM, YOUNG PIL;LEE, SUN GHIL;SHIN, YU GYUN;LEE, JONG WOOK;JUNG, IN SOO
分类号
H01L21/20
主分类号
H01L21/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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