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发明名称
Substrat-Bearbeitungsverfahren und -vorrichtung
摘要
申请公布号
DE10036867(B4)
申请公布日期
2006.04.13
申请号
DE2000136867
申请日期
2000.07.28
申请人
TOKYO ELECTRON LTD., TOKIO/TOKYO
发明人
TOSHIMA, TAKAYUKI;UENO, KINYA;YAMASAKA, MIYAKO;TSUTSUMI, HIDEYUKI;IINO, TADASHI;KAMIKAWA, YUJI
分类号
B01J19/00;H01L21/304;G03F7/36;G03F7/42;H01L21/306;H01L21/311
主分类号
B01J19/00
代理机构
代理人
主权项
地址
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