| 发明名称 |
一种碳纳米管阵列处理方法 |
| 摘要 |
本发明涉及纳米材料，特别涉及一种碳纳米管阵列处理方法。本发明中，在基底上形成一碳纳米管阵列；通过预定图形的模压装置对所述碳纳米管阵列压印；取下模压装置，形成具有相应图形的碳纳米管阵列。该方法工艺简单、成本较低、有利于大批量生产。 |
| 申请公布号 |
CN1757594A |
申请公布日期 |
2006.04.12 |
| 申请号 |
CN200410051806.X |
申请日期 |
2004.10.06 |
| 申请人 |
清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 |
发明人 |
柳鹏;盛雷梅;魏洋;刘亮;潜力;胡昭复;杜秉初;陈丕瑾;范守善 |
| 分类号 |
C01B31/00(2006.01);B82B3/00(2006.01) |
主分类号 |
C01B31/00(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
1.一种碳纳米管阵列处理方法，包括步骤：一基底，其上形成一碳纳米管阵列；通过预定图形的模压装置对所述碳纳米管阵列压印；取下模压装置，形成具有相应图形的碳纳米管阵列。 |
| 地址 |
100084北京市海淀区清华大学物理系 |
