发明名称 |
带有容纳治疗剂空腔的植入体 |
摘要 |
一种植入体和一种用于制造植入体的方法。植入体具有最好由氧化铝制成的覆层,覆层配有相同形状的空腔和朝向覆层表面的独立的开孔用于容纳治疗剂,治疗剂在植入状态根据需要又放出。 |
申请公布号 |
CN1250299C |
申请公布日期 |
2006.04.12 |
申请号 |
CN99813037.0 |
申请日期 |
1999.11.02 |
申请人 |
阿尔考弗表面股份有限公司 |
发明人 |
沃尔夫冈·布兰道;阿尔方斯·费希尔;托马斯·沙韦托斯基;冈特·施密德 |
分类号 |
A61L31/14(2006.01);A61L31/16(2006.01);A61L31/02(2006.01) |
主分类号 |
A61L31/14(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
苏娟;赵辛 |
主权项 |
1、植入体(1),该植入体带有载体(2)和至少一种治疗剂(5),其中载体(2)具有至少局部构成的覆层(6),为了容纳至少一种治疗剂(5),覆层(6)具有多个带有朝向覆层(6)表面(8)的独立开孔(9)的通过电解氧化产生的空腔(10),其特征为,覆层(6)基本上由电解氧化的氧化铝、氧化镁、氧化钽、氧化铁和/或氧化钨构成,开孔(9)和/或空腔(10)基本上形状相同,空腔(10)和/或其开孔(9)具有最大100nm的最大或中间直径的横截面或者说开孔面积,植入体(1)包括作为治疗剂(5)的放射性物质,该放射性物质容纳在空腔(10)里面。 |
地址 |
德国埃森 |