发明名称 气体供应装置及方法
摘要 提供一种气体供应装置及方法,可以从外部有效率的进行气体容器之加热或冷却,同时可以使供给气体之压力保持在略一定值。朝向载置于设置台11上之气体容器底面喷出热媒体之喷嘴插入设置于设置台11部之贯通孔18,并且设置有从气体容器底面与设置台上面之间的空间排出上述热媒体之热媒体排出路径。测定来自气体容器所供给之气体的流量与压力,当测定之流量超过容许流量变动幅度时,根据测量之流量与基准流量之差调节热媒体之温度,当测定之流量在容许流量变动幅度内时,根据量测之压力与基准压力之差调节热媒体之温度。
申请公布号 TWI252896 申请公布日期 2006.04.11
申请号 TW091136632 申请日期 2002.12.19
申请人 大阳日酸股份有限公司 发明人 田中 纯一;折田 隆;越后岛 真
分类号 F17C7/04 主分类号 F17C7/04
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 1.一种气体供应装置,系为一种使载置于一设置台 上之一气体容器中所填充之液化气体在该气体容 器内气化并供给之气体供应装置,其特征在于使朝 向该气体容器底面喷出热媒体之一喷嘴插入设置 于该设置台中央部之一贯通孔,并且设置有从该气 体容器底面与该设置台上面之间的空间排出该热 媒体之一热媒体排出路径,以及该设置台是由能够 测定该气体容器之重量变化的一重量测定装置所 支撑。 2.如申请专利范围第1项所述之气体供应装置,其特 征为该热媒体排出路径为设置在该设置台中之通 孔。 3.如申请专利范围第1项所述之气体供应装置,其特 征为该热媒体排出路径为设置在该设置台上之凹 凸。 4.如申请专利范围第1项所述之气体供应装置,其特 征为设置有包覆于该气体容器周围之筒状体,并且 该热媒体排出路径是形成使从该气体容器底面部 分排出之热媒体从该气体容器与该筒状体之间流 出。 5.如申请专利范围第1项所述之气体供应装置,其特 征为该喷嘴系对应该设置台而设置成非接触状态 。 6.如申请专利范围第1项所述之气体供应装置,其特 征为具备有可测定从该气体容器供给的一气体之 压力的一压力测定装置与测定该气体之流量的该 流量测定装置,以及根据该压力测定装置与该流量 测定装置之测定値调节热媒体之温度的一温度调 节装置。 7.一种气体供应方法,系为一种利用温度经调节之 一热媒体加温或冷却填充有液化气体之一气体容 器以一边调节该气体容器内之液化气体的蒸发量 一边供给气化气体之方法,其特征在于测定从该气 体容器供给之一气体的压力与流量,当一测定之流 量与预先设定之一基准流量相比超过预先设定之 一容许流量变动范围时,根据该测定之流量与该基 准流量之差调节该热媒体之温度,当该测定之流量 与预先设定之该基准流量相比处于预先设定之该 容许流量变动范围时,根据测定之压力与预先设定 之基准压力之差调节该热媒体之温度。 8.一种气体供应方法,系为一种利用温度经调节之 一热媒体加温或冷却填充有液化气体之一气体容 器以一边调节该气体容器内之液化气体的蒸发量 一边供给气化气体之方法,其特征在于测定从该气 体容器供给之气体的压力与流量,当一测定之压力 与预先设定之一基准压力相比低于预先设定之一 下限压力时,根据一测定之流量与预先设定之一基 准流量之差调节该热媒体之温度,当该测定之压力 超过该下限压力时,根据该测定之压力与预先设定 之该基准压力之差调节该热媒体之温度。 图式简单说明: 第1图为绘示本发明第一实施例之气体供应装置剖 面正面图。 第2图为绘示本发明第一实施例之气体供应装置剖 面平面图。 第3图为绘示本发明第二实施例之气体供应装置剖 面正面图。 第4图为绘示本发明第二实施例之气体供应装置剖 面平面图。 第5图为绘示本发明第三实施例之气体供应装置剖 面正面图。 第6图为绘示本发明第四实施例之气体供应装置剖 面正面图。 第7图为绘示本发明气体供应方法之概略方块图。 第8图为绘示本发明之方法与习知方法在气体容器 内之压力变化状况示意图。
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