| 主权项 |
1.一种背光模组结构,包括: 一导光板,该导光板具有一光输出面、一光入射面 ; 一光源,配置于该导光板之该光入射面旁; 一反射件,该反射件配置于该光源旁,使得该光源 所产生之部分光线可经由该反射件而导入该光入 射面;以及 二侧框,该二侧框系配置于该导光板之二侧,其中 该二侧框相对于该反射件以及该导光板的二内侧 面具有至少一凹槽之结构。 2.如申请专利范围第1项所述之背光模组结构,其中 该二侧框系由不吸光材质所组成。 3.如申请专利范围第1项所述之背光模组结构,其中 该凹槽的形状包括矩形、U型及V型。 4.如申请专利范围第1项所述之背光模组结构,其中 该凹槽之排列方向系与该导光板之该光输出面垂 直。 5.如申请专利范围第1项所述之背光模组结构,其中 该凹槽之排列方向系与该导光板之该光输出面平 行。 6.如申请专利范围第1项所述之背光模组结构,更包 括一前框与该二侧框相连结,并且该前框中面对该 导光板之内侧面具有至少一凹槽之结构。 7.如申请专利范围第6项所述之背光模组结构,其中 该二侧框以及该前框系由不吸光材质所组成。 8.如申请专利范围第6项所述之背光模组结构,其中 在该二侧框以及该前框内所形成的凹槽外型包括 矩形、U型及V型。 9.如申请专利范围第6项所述之背光模组结构,其中 在该二侧框以及该前框内所形成的凹槽其排列方 向系与该导光板之该光输出面垂直。 10.如申请专利范围第6项所述之背光模组结构,其 中在该二侧框以及该前框内所形成的凹槽其排列 方向系与该导光板之该光输出面平行。 11.如申请专利范围第1项所述之背光模组结构,为 一侧入式背光模组。 12.如申请专利范围第1项所述之背光模组结构,为 一直下式背光模组。 13.如申请专利范围第12项所述之背光模组结构,其 中该光源系介于该反射件与该光入射面之间。 14.如申请专利范围第13项所述之背光模组结构,其 中该光源系由至少一发光二极体所组成且该背光 模组结构可执行一混光作用。 15.如申请专利范围第1项所述之背光模组结构,其 中该反射件为一罩形结构。 16.如申请专利范围第1项所述之背光模组结构,其 中该反射件为一板形结构。 17.如申请专利范围第1项所述之背光模组结构,其 中该凹槽形成至少一光反射作用区域。 18.一种背光模组内补偿暗区亮度的方法,包括: 提供一背光模组,该背光模组包括一导光板、一光 源以及一反射件,其中该导光板包括一光输出面以 及一光入射面,该光源系配置于该导光板之该光入 射面旁,该反射件则配置于该光源旁;以及 提供两侧框于该导光板之两侧,其中该侧框相对于 该反射件以及该导光板之内侧面具有一凹槽结构, 使得该导光板之侧面增加额外之一混光区域,使得 该光源所产生之部分光源可再次折射或反射后导 入该光入射面。 19.如申请专利范围第18项所述之背光模组内补偿 暗区亮度的方法,其中该侧框系由不吸光材质所组 成。 20.如申请专利范围第18项所述之背光模组内补偿 暗区亮度的方法,其中该凹槽的形状包括矩形、U 型及V型。 21.如申请专利范围第18项所述之背光模组内补偿 暗区亮度的方法,其中该凹槽之排列方向系与该导 光板之该光输出面垂直。 22.如申请专利范围第18项所述之背光模组内补偿 暗区亮度的方法,其中该凹槽之排列方向系与该导 光板之该光输出面平行。 23.如申请专利范围第18项所述之背光模组内补偿 暗区亮度的方法,其中该导光板系采用一侧入式的 光源入射方式。 24.如申请专利范围第23项所述之背光模组内补偿 暗区亮度的方法,更包含设置一反射片在该导光板 内相对该光输出面之一侧。 25.如申请专利范围第18项所述之背光模组内补偿 暗区亮度的方法,其中该导光板系采用一直下式的 光源入射方式。 图式简单说明: 第一A图系习知背光模组的立体结构示意图。 第一B图至第一D图系习知背光模组内,暗区产生的 区域。 第二A图系依据本发明之第一较佳具体实施例所提 供之背光模组立体结构示意图。 第二B图系依据本发明之第一较佳具体实施例中, 矩形凹槽在背光模组内的上透视图。 第三A图系依据本发明之第二较佳具体实施例所提 供之背光模组立体结构示意图。 第三B图系依据本发明之第二较佳具体实施例中, 复数个V型凹槽在背光模组内的上透视图。 第四A图系依据本发明之第三较佳具体实施例所提 供之背光模组立体结构示意图。 第四B图至第四C图系依据本发明之第三较佳具体 实施例中,V型凹槽在背光模组内的上透视图。 第五A图系依据本发明之第四较佳具体实施例所提 供之背光模组立体结构示意图。 第五B图系依据本发明之第四较佳具体实施例中, 复数个V型凹槽在背光模组内的上透视图。 |
