发明名称 光源装置及投影机
摘要 本发明的课题是在于提供光利用效率高的光源装置及投影机。亦即,本发明之光源装置的特征系具有:面发光部101,其系由平面发光区域101a放射光;反射金属电极106,其系设置于面发光部101的一方面侧;及四角锥棱镜104,其系设置于面发光部101的另一方面侧,由玻璃所构成;又,四角锥棱镜104的底面104a系与平面发光区域101a大略同一大小及形状;四角锥棱镜104的斜面105a, 105b系由底面104a射入四角锥棱镜104的光之中,将折射于斜面105a,105b的光予以射出至特定的方向,将反射于斜面105a,105b的光予以引导至底面104a的方向;反射金属电极106系使反射于斜面105a,105b,透过底面104a与面发光部101的光再度反射至四角锥棱镜104的方向。
申请公布号 TWI253187 申请公布日期 2006.04.11
申请号 TW093130371 申请日期 2004.10.07
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 米洼政敏
分类号 H01L33/00;H04N5/74 主分类号 H01L33/00
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种光源装置,其特征系具有: 面发光部,其系由平面发光区域放射光; 反射部,其系设置于上述面发光部的一方面侧;及 圆锥棱镜或角锥棱镜,其系设置于上述面发光部的 另一方面侧,由光学透明构件所构成; 上述圆锥棱镜的底面或上述角锥棱镜的底面系与 上述平面发光区域大略同一大小及形状; 上述圆锥棱镜的斜面或上述角锥棱镜的斜面系由 上述底面射入上述圆锥棱镜或上述角锥棱镜的光 之中,将折射于上述斜面的光予以射出至特定的方 向,将反射于上述斜面的光予以引导至上述底面的 方向; 上述反射部系使反射于上述斜面,透过上述底面与 上述面发光部的光再度反射至上述圆锥棱镜或上 述角锥棱镜的方向。 2.如申请专利范围第1项之光源装置,其中上述圆锥 棱镜的顶角或上述角锥棱镜之对向的斜面所成的 顶角大略为90。 3.如申请专利范围第2项之光源装置,其中在上述底 面设有使入射光散乱的扩散板。 4.如申请专利范围第1~3项的任一项所记载之光源 装置,其中上述角锥棱镜为具有4个斜面的四角锥 棱镜; 在上述4个斜面形成有对上述各斜面透过特定的振 动方向的偏光成分,反射与上述特定的振动方向大 略正交的偏光成分之偏光分离膜; 对向之一对的上述斜面更具有在上述偏光分离膜 上使透过光的振动方向大略旋转90的相位差板; 上述4个斜面系射出振动方向一致的光。 5.如申请专利范围第4项之光源装置,其中在上述底 面形成有1/4波长板或使偏光光的振动方向形成随 机的上述扩散板。 6.如申请专利范围第1或2项之光源装置,其中具有 偏光板,其系设置于上述角锥棱镜或上述圆锥棱镜 的斜面侧,透过第1振动方向的偏光成分,反射与上 述第1振动方向相异的第2振动方向的偏光成分。 7.如申请专利范围第6项之光源装置,其中在上述角 锥棱镜或上述圆锥棱镜与上述偏光板之间的光路 内更具有1/4波长板。 8.如申请专利范围第6项之光源装置,其中具有光引 导部,其系以能够围绕上述角锥棱镜或上述圆锥棱 镜之方式来予以设置,且形成有反射自上述角锥棱 镜或上述圆锥棱镜射出的光之反射面。 9.一种投影机,其特征系具有: 光源装置,其系申请专利范围第1~8项的任一项所记 载之光源装置: 空间光调变装置,其系按照画像信号来调变来自上 述光源装置的光;及 投射透镜,其系投射所被调变的光。 图式简单说明: 图1是表示实施例1之光源装置的立体图。 图2是表示实施例1之光源装置的剖面图。 图3-1是表示以往光源装置的放射强度图。 图3-2是表示实施例1之光源装置的放射强度图。 图4是表示棱镜的顶角与中心强度的关系。 图5是表示实施例2之光源装置的立体图。 图6-1是表示实施例3之光源装置的立体图。 图6-2是表示实施例3之光源装置的上面图。 图7-1是表示实施例3之光源装置的剖面图。 图7-2是表示实施例3之光源装置的其他剖面图。 图8是表示实施例4之光源装置的剖面图。 图9是表示实施例5之投影机的剖面图。
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