首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR EXPOSURE TO FAR ULTRAVIOLET LIGHT
摘要
申请公布号 KR100569641(B1) 申请公布日期 2006.04.11
申请号 KR19990026473 申请日期 1999.07.02
申请人 发明人
分类号 C08L101/00;C09D201/00;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 C08L101/00
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com