发明名称 |
PROCEDE ET INSTALLATION D'ANALYSE D'UN CIRCUIT INTEGRE |
摘要 |
<P>L'invention concerne un procédé d'analyse d'un circuit intégré. Le procédé comporte, pour une pluralité de points à la surface du circuit intégré :- une étape d'application (102) d'un rayonnement laser, en un point de la surface du circuit intégré :- une étape (106) d'excitation du circuit ;- une étape (108) de recueil de la réponse du circuit à l'excitation ;- une étape (114) de calcul du temps de propagation séparant l'instant d'excitation du circuit de l'instant de recueil de la réponse ; et- une étape (116) de création d'une image du circuit intégré illustrant une valeur représentative du temps de propagation pour chaque point d'application du rayonnement laser.L'invention concerne également une installation d'analyse d'un circuit intégré.</P>
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申请公布号 |
FR2876188(A1) |
申请公布日期 |
2006.04.07 |
申请号 |
FR20040010424 |
申请日期 |
2004.10.01 |
申请人 |
CENTRE NATIONAL D'ETUDES SPATIALES ETABLISSEMENT PUBLIC A CARACTERE INDUSTRIEL ET COMMERCIAL |
发明人 |
DESPLATS ROMAIN;SANCHEZ KEVIN;BEAUDOIN FELIX |
分类号 |
G01R31/311 |
主分类号 |
G01R31/311 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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