| 发明名称 | 具有2,6－二取代苯乙烯基的含氮杂环衍生物 | ||
| 摘要 | 本发明提供了新颖的具有2，6－二取代苯乙烯基的含氮杂环衍生物或制药学中允许的盐及含有该含氮杂环衍生物或其制药学中允许的盐和制药学中允许的载体的医药组合物，特别提供了对神经原性疼痛的镇痛效果较好、副作用有所减少的钠通道抑制剂用医药组合物。 | ||
| 申请公布号 | CN1756740A | 申请公布日期 | 2006.04.05 |
| 申请号 | CN200480005921.1 | 申请日期 | 2004.03.05 |
| 申请人 | 安斯泰来制药有限公司;寿制药株式会社 | 发明人 | 菊池和美;奥诚;藤安次郎;朝井范夫;渡边俊博;永仓透记;富山泰;曾根川元治;德崎一夫;岩井辰宪 |
| 分类号 | C07D207/06(2006.01);C07D211/12(2006.01);C07D211/14(2006.01);C07D211/16(2006.01);C07D211/18(2006.01);C07D211/22(2006.01);C07D213/16(2006.01);C07D215/06(2006.01);C07D223/04(2006.01);C07D401/06(2006.01);C07D451/02(2006.01);C07D453/02(2006.01);C07D211/26(2006.01);C07D211/34(2006.01);C07D211/30(2006.01);C07D211/60(2006.01);C07D211/62(2006.01);C07D211/42(2006.01);C07D211/46(2006.01);C07D211/38(2006.01);C07D211/56(2006.01);C07D211/58(2006.01);C07D211/76(2006.01);C07D405/06(2006.01);C07D401/12(2006.01);C07D405/12(2006.01);C07D413/06(2006.01);A61K31/40(2006.01);A61K31/439(2006.01);A61K31/443(2006.01);A61K31/4409(2006.01);A61K31/445(2006.01);A61K31/4458(2006.01);A61K31/4462(2006.01);A61K31/4465(2006.01);A61K31/451(2006.01);A61K31/4523(2006.01);A61K31/453(2006.01);A61K31/454(2006.01);A61K31/4545(2006.01);A61K31/46(2006.01);A61K31/47(2006.01);A61K31/496(2006.01);A61K31/497(2006.01);A61K31/506(2006.01);A61K31/55(2006.01);A61K31/5377(2006.01);A61P25/02(2006.01);A61P25/04(2006.01);A61P43/00(2006.01) | 主分类号 | C07D207/06(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 范征 |
| 主权项 | 1.以下式(I)表示的含氮杂环衍生物或其制药学中允许的盐，前述式(I)中的符号的含义如下所述：R1及R2：相同或不同，表示H-、可被取代的低级烷基、环烷基、芳基、酰基、HO-CO-、低级烷基-O-CO-、H2N-CO-、低级烷基-HN-CO-、(低级烷基)2N-CO-、HO-、低级烷基-O-、芳基-O-、酰基-O-、H2N-、低级烷基-HN-、(低级烷基)2N-、酰基-NH-、卤原子、硝基、杂环基或氰基，R3及R4：相同或不同，表示可被取代的低级烷基、环烷基、酰基、HO-CO-、低级烷基-O-CO-、H2N-CO-、低级烷基-HN-CO-、(低级烷基)2N-CO-、HO-、低级烷基-O-、酰基-O-、H2N-、低级烷基-HN-、(低级烷基)2N-、酰基-NH-、卤原子、硝基或氰基，R5及R6：相同或不同，表示H-、低级烷基或卤原子，R7及R8：相同或不同，表示H-、低级烷基、HO-、低级烷基-O-或卤原子，R7及R8还可一起形成为氧代基(O＝)，R9：H-、可被取代的低级烷基、可被取代的环烷基、可被取代的酰基、低级烷基-C(＝NH)-、HO-CO-、可被取代的低级烷基-O-CO-、H2N-CO-、可被取代的低级烷基-HN-CO-、(可被取代的低级烷基)2N-CO-、H2NC(＝NH)-、H2NC(＝NCN)-、H2NC(＝N-CONH2)-、H2NC(＝NS(＝O)2NH2)-、可被取代的低级烷基-SO2-或可被取代的杂环基-SO2-，R10、R11、R12及R13：相同或不同，表示H-或低级烷基，R10、R11、R12 及R13中的任2个基团还可一起形成为氧代基(O＝)，A：含氮饱和杂环基，喹啉基或吡啶-4-基，但上式中的A为喹啉基或吡啶-4-基时R9不存在，n：0、1或2。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||