| 发明名称 | 离子束流密度探测装置 | ||
| 摘要 | 一种离子束流密度测量装置，其特征在于该装置的构成是：一紫铜圆盘，该圆盘的中心位置具有一连成一体的紫铜探测体，一底座，该底座的中轴位置有一通孔，供所述的探测体插设形成离子接收器；一可调直流电压，其负极通过一导线与所述的圆盘相连，其正极经一电流表接地。本发明具有结构简单、灵活、实用和操作方便的特点。 | ||
| 申请公布号 | CN1249264C | 申请公布日期 | 2006.04.05 |
| 申请号 | CN200410017709.9 | 申请日期 | 2004.04.15 |
| 申请人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明人 | 张大伟;范瑞英;方明;邵建达;范正修;张东平;尚淑珍;范树海 |
| 分类号 | C23C14/54(2006.01);G01N11/02(2006.01);G01T1/00(2006.01) | 主分类号 | C23C14/54(2006.01) |
| 代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人 | 张泽纯 |
| 主权项 | 1、一种用于真空镀膜机的离子束流密度测量装置，其特征在于该装置的构成是：一紫铜圆盘(1)，该圆盘(1)的中心位置具有一连成一体的紫铜探测体(2)；一底座(3)，该底座(3)的中轴位置有一通孔(4)，供所述的探测体(2)插设形成离子接收器(5)，该离子接收器(5)做成和常规薄膜基底一样的圆片，可自由安放在夹具(6)上放置基片的小孔内；一可调直流电压源(8)，其负极通过一导线(7)与所述的圆盘(1)相连，其正极经一电流表(9)接地(10)。 | ||
| 地址 | 201800上海市800－211邮政信箱 | ||