发明名称 |
用于产生远紫外线辐射或软X射线辐射的方法和装置 |
摘要 |
借助气体放电产生远紫外线辐射/软X射线辐射的方法,尤其被用于EUV光刻术,其中,在放电室(11)内给两个电极施加高电压,在所述的两个电极之间,根据在帕申曲线的左支路上进行的放电工作而在两个同轴电极开孔(12,13)的区域内提供一种具有预定气压的气体填充,在该气体填充当中通过输入能量而构造发出辐射的等离子体(10),其特征在于:所述的等离子体(10)在所述的电极开孔(12,13)的区域内借助气体填充的压力变化而被偏移。 |
申请公布号 |
CN1250054C |
申请公布日期 |
2006.04.05 |
申请号 |
CN02807601.X |
申请日期 |
2002.03.21 |
申请人 |
弗劳恩霍弗实用研究促进协会;皇家菲利浦电子有限公司 |
发明人 |
W·内夫;K·博格曼;O·罗西尔;J·潘克特 |
分类号 |
H05G2/00(2006.01) |
主分类号 |
H05G2/00(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
程天正;张志醒 |
主权项 |
1.用于借助气体放电产生远紫外线辐射/软X射线辐射的方法,尤其被用于EUV光刻术,其中,在放电室(11)内给两个电极施加高电压,在所述的两个电极之间,根据在帕申曲线的左支路上进行的放电工作而在两个同轴电极开孔(12,13)的区域内提供一种具有预定气压的气体填充,在该气体填充当中通过输入能量而构造发出辐射的等离子体(10),其特征在于:所述的等离子体(10)在所述的电极开孔(12,13)的区域内借助气体填充的压力梯度而被偏移和/或成形。 |
地址 |
德国慕尼黑 |