发明名称 用于产生远紫外线辐射或软X射线辐射的方法和装置
摘要 借助气体放电产生远紫外线辐射/软X射线辐射的方法,尤其被用于EUV光刻术,其中,在放电室(11)内给两个电极施加高电压,在所述的两个电极之间,根据在帕申曲线的左支路上进行的放电工作而在两个同轴电极开孔(12,13)的区域内提供一种具有预定气压的气体填充,在该气体填充当中通过输入能量而构造发出辐射的等离子体(10),其特征在于:所述的等离子体(10)在所述的电极开孔(12,13)的区域内借助气体填充的压力变化而被偏移。
申请公布号 CN1250054C 申请公布日期 2006.04.05
申请号 CN02807601.X 申请日期 2002.03.21
申请人 弗劳恩霍弗实用研究促进协会;皇家菲利浦电子有限公司 发明人 W·内夫;K·博格曼;O·罗西尔;J·潘克特
分类号 H05G2/00(2006.01) 主分类号 H05G2/00(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 程天正;张志醒
主权项 1.用于借助气体放电产生远紫外线辐射/软X射线辐射的方法,尤其被用于EUV光刻术,其中,在放电室(11)内给两个电极施加高电压,在所述的两个电极之间,根据在帕申曲线的左支路上进行的放电工作而在两个同轴电极开孔(12,13)的区域内提供一种具有预定气压的气体填充,在该气体填充当中通过输入能量而构造发出辐射的等离子体(10),其特征在于:所述的等离子体(10)在所述的电极开孔(12,13)的区域内借助气体填充的压力梯度而被偏移和/或成形。
地址 德国慕尼黑