发明名称 描绘装置
摘要 本发明提供一种描绘装置,能够连续地对长条的挠性记录介质进行曝光处理,而缩短等待时间,在短时间内进行多个曝光处理,能够提高生产性。至少在2个辊(30、32)之间架设连续向一定的输送方向输送的长条的挠性记录介质(28)。然后,在通过用张力设定机构(68)保持架设在相邻的2个辊(30、32)之间的部分的一定的张力而平面地拉架的长条的挠性记录介质的部分上,用描绘单元(48),按二维图形进行描绘处理。由此,由于通常能够连接进行曝光处理,所以能够提高生产性。
申请公布号 CN1756292A 申请公布日期 2006.04.05
申请号 CN200510106991.2 申请日期 2005.09.29
申请人 富士胶片株式会社 发明人 福井隆史
分类号 H04N1/04(2006.01) 主分类号 H04N1/04(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 朱丹
主权项 1.一种描绘装置,连续地向一定的输送方向输送长条的挠性记录介质的同时进行描绘,其特征在于,具有:架设所述长条的挠性记录介质的至少2个辊;张力设定机构,一定地保持所述长条的挠性记录介质上的架设在所述相邻的2个辊之间的部分的张力,以便平面地拉架长条的挠性记录介质;描绘单元,在平面地拉架在所述相邻的2个辊之间的所述长条的挠性记录介质上,按二维图形进行描绘处理。
地址 日本神奈川县