| 发明名称 | 等离子体处理过程中减小电弧的方法和装置 | ||
| 摘要 | 在第一方面中，提供了一种在等离子体处理过程中使用的方法。第一方法包括下述步骤：(1)将基板放置在等离子体室的基板固定器上；(2)在基板周边以下并且邻近基板周边处定位盖框架；和(3)使用盖框架减小等离子体室内的等离子体处理过程中的电弧。提供了多个其它的方面。 | ||
| 申请公布号 | CN1754978A | 申请公布日期 | 2006.04.05 |
| 申请号 | CN200510083762.3 | 申请日期 | 2005.06.01 |
| 申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | 侯力;王群华;E·萨姆;J·M·怀特 |
| 分类号 | C23C14/22(2006.01);H01L21/203(2006.01) | 主分类号 | C23C14/22(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 顾峻峰 |
| 主权项 | 1.一种在等离子体处理过程中使用的方法，包括：将基板放置在等离子体室的基板固定器上；在基板周边以下并且邻近基板周边处定位盖框架；以及使用所述盖框架减小等离子体室内的等离子体处理过程中的电弧。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||