| 发明名称 | 钯镀液 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种能够形成高纯度稳定的包括厚度为5μm的镀膜且无裂缝的钯沉积物的钯镀液。该钯镀液含有以钯计0.1～40.0g/l的可溶钯盐，0.01～10g/l的吡啶羧酸和/或以金属计0.002～1.0g/l的至少一种盐选自：可溶的铁、锌、铊、硒和碲盐，0.005～10g/l的吡啶羧酸的胺衍生物，以及0.001～1.2g/l的醛基苯甲酸衍生物和0.001～1.2g/l的阴离子表面活性剂或两性表面活性剂。 | ||
| 申请公布号 | CN1249270C | 申请公布日期 | 2006.04.05 |
| 申请号 | CN01801111.X | 申请日期 | 2001.06.15 |
| 申请人 | 小岛化学药品株式会社 | 发明人 | 秋元武海;新井阳太郎 |
| 分类号 | C25D3/50(2006.01) | 主分类号 | C25D3/50(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 龙传红 |
| 主权项 | 1、一种钯镀液，含有以钯计1.0～40.0g/l的可溶钯盐、0.01～10g/l的吡啶羧酸、0.005～10g/l的吡啶羧酸的酰胺衍生物以及0.001～1.2g/l的阴离子表面活性剂或两性表面活性剂，其改进之处在于进一步组合含有以金属计0.002～1.0g/l的至少一种选自可溶的铁、锌、铊、硒和碲盐的盐以及0.002～20.0g/l的醛基苯甲酸衍生物，从而降低钯沉积物的内部应力并改进光泽效果。 | ||
| 地址 | 日本埼玉县 | ||