发明名称 |
磁盘基板抛光用组合物及其生产方法 |
摘要 |
由含碱金属离子、磨粒、羧酸、氧化剂、凝胶化防止剂的水性介质组成的磁盘基板抛光用组合物。用该抛光用组合物抛光磁盘的基板时,表面的粗糙度非常小,用所抛光的盘制作的磁盘作为低浮上型硬盘,可高密度记录。 |
申请公布号 |
CN1249193C |
申请公布日期 |
2006.04.05 |
申请号 |
CN01800964.6 |
申请日期 |
2001.04.16 |
申请人 |
昭和电工株式会社 |
发明人 |
宫田宪彦 |
分类号 |
C09K3/14(2006.01);B24B21/00(2006.01);G11B5/84(2006.01) |
主分类号 |
C09K3/14(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王杰 |
主权项 |
1.一种磁盘基板抛光用组合物,其特征在于,由含有选自锂、钠、钾、铷、铯中至少一种碱金属离子,磨粒,羧酸,选自过氧化氢、过硫酸盐、硝酸盐、含氧酸盐、铁盐中至少一种氧化剂,选自膦酸类化合物、菲绕啉、乙酰丙酮铝盐中至少一种凝胶化防止剂的水性介质组成,该水性介质的pH是1~5的范围;上述水性介质中碱金属离子的含量在0.05~3.0质量%的范围,磨粒的含量在5~15质量%的范围内,羧酸的含量在0.5~4.0质量%的范围内,氧化剂的含量在0.5~3.0质量%的范围内,凝胶化防止剂的含量在2质量%以内。 |
地址 |
日本东京 |