发明名称 |
灰调掩模 |
摘要 |
本发明提供一种灰调掩模。目的是使利用具有灰调部的灰调掩模的图形转印工序实用化,其中该灰调部由具有使用灰调掩模的曝光机的分辨极限以下的微遮光图形构成。在该灰调掩模中,例如,沿着与灰调部(3)相接的遮光图形(1)的轮廓形状,在灰调部(3)一侧形成轮廓图形(30)。 |
申请公布号 |
CN1755520A |
申请公布日期 |
2006.04.05 |
申请号 |
CN200510112885.5 |
申请日期 |
2002.06.25 |
申请人 |
HOYA株式会社 |
发明人 |
井村和久 |
分类号 |
G03F1/14(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F1/14(2006.01) |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 |
代理人 |
李辉 |
主权项 |
1.一种灰调掩模,具有遮光部、透射部和灰调部,其中灰调部是排列具有使用掩模的曝光机分辨极限以下的图形尺寸的遮光图形的区域,并使透射过该区域的曝光光线的透射量减少,其特征在于,所述灰调掩模,至少具有遮光部和灰调部相邻接的边界部分;与所述遮光部邻接的所述灰调部中的遮光图形,具有与所述遮光部的轮廓形状大致平行的线和空间图形;与所述遮光部邻接的所述灰调部中最靠近遮光部边界一侧的遮光图形和所述遮光部之间的间隔,大于所述线和空间图形的空间间隔。 |
地址 |
日本东京 |