| 发明名称 | 用于CMP的含硅烷的抛光组合物 | ||
| 摘要 | 一种抛光组合物，包含至少一种溶液形式的硅烷化合物及至少一种磨蚀剂，可用以抛光基材表面特征。 | ||
| 申请公布号 | CN1249185C | 申请公布日期 | 2006.04.05 |
| 申请号 | CN01812364.3 | 申请日期 | 2001.06.14 |
| 申请人 | 卡伯特微电子公司 | 发明人 | 史蒂文·K·格鲁姆宾;王淑敏 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01) | 主分类号 | C09G1/02(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 贾静环;宋莉 |
| 主权项 | 1.一种抛光浆液，包含至少一种溶液形式的经官能化的烷基硅烷化合物及至少一种磨蚀剂，其中所述浆液不包含成膜聚合物；其中溶液形式的硅烷指以解离可溶或乳化形式存在于该抛光组合物及浆液中的硅烷，而粘着于磨蚀粒子上的硅烷不视为溶液形式的。 | ||
| 地址 | 美国伊利诺伊州 | ||