发明名称 ISOLATION AREA FORMING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 KR100567054(B1) 申请公布日期 2006.04.04
申请号 KR19990062641 申请日期 1999.12.27
申请人 发明人
分类号 H01L21/76 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人
主权项
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