发明名称 | 闸极、薄膜电晶体以及画素结构的制作方法 | ||
摘要 | 一种闸极的制作方法。首先,于一基底上形成一图案化之罩幕层,其中罩幕层系暴露出一预定形成闸极之区域。接着,于罩幕层所暴露之区域中形成一闸极。然后,移除罩幕层。此闸极的制作方法可使闸极之侧壁维持良好的阶梯状,而应用于薄膜电晶体以及画素结构的制程时,可使后续沉积之膜层具有较佳之覆盖性,并可避免闸极之尖端放电的问题。 | ||
申请公布号 | TW200611037 | 申请公布日期 | 2006.04.01 |
申请号 | TW093129544 | 申请日期 | 2004.09.30 |
申请人 | 中华映管股份有限公司 | 发明人 | 苏大荣;高金字;赖弥正;许翼材 |
分类号 | G02F1/1343 | 主分类号 | G02F1/1343 |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 台北市中山区中山北路3段22号 |