发明名称 发光二极体之构造改良
摘要 发光二极体之构造改良发明摘要:本发明系有关于一种发光二极体,尤指一种可适用于平面型发光二极体之构造改良,其主要系利用一导电片直接固着于发光二极体磊晶片之第一电极或第二电极,用以取代用覆晶发光二极体之锡球构造,如此不仅可增加其散热效率以增加其稳定度及使用寿命,亦可在不使用覆晶发光二极体之封装制作方式下,即可得到与覆晶发光二极体相同之发光导出效果。
申请公布号 TWI252594 申请公布日期 2006.04.01
申请号 TW092117040 申请日期 2003.06.24
申请人 光磊科技股份有限公司 发明人 林明德;许荣贵;林三宝
分类号 H01L33/00 主分类号 H01L33/00
代理机构 代理人 张秀夏 台北市大安区敦化南路2段38号9楼
主权项 1.一种发光二极体之构造改良,其主要构造系包括 有: 一晶粒基板; 一固设于该晶粒基板上具有一PN界面之发光二极 体磊晶层,该磊晶层之同一表面部分位置个别设有 一第一电极及一第二电极; 至少一导电片,固设于该第一电极、第二电极及其 组合式之其中之一者;及 两供电线路,固设于该发光二极体磊晶层之两侧, 并于两供电线路之间设有一散热层,该散热层主要 系可用以包覆于该PN界面之周边位置。 2.如申请专利范围第1项所述之发光二极体构造改 良,其中该导电片系由一具有散热功能之材料所制 成者。 3.如申请专利范围第1项所述之发光二极体构造改 良,其中该发光二极体系为一覆晶构装型发光二极 体。 4.如申请专利范围第1项所述之发光二极体构造改 良,其中该导电片系可弯折成任意几何形状者。 5.如申请专利范围第1项所述之发光二极体构造改 良,其中该导电片系为一"L"型态样者。 6.如申请专利范围第5项所述之发光二极体构造改 良,其中该LED系为一SMD型发光二极体。 7.如申请专利范围第1项所述之发光二极体构造改 良,尚包括有至少一引线,可个别固设于该导电片 上。 8.如申请专利范围第1项所述之发光二极体构造改 良,其中该导电片系可为该第一电极、第二电极及 其组合式之其中之一的延伸电极,该延伸电极可延 伸超出发光二极体磊晶层侧边之垂直延伸位置者 。 9.如申请专利范围第1项所述之发光二极体构造改 良,尚包括有一反光层,固设于该磊晶层与第一电 极之间。 10.如申请专利范围第1项所述之发光二极体构造改 良,尚包括有一保护层,设于该供电线路内,并用以 包覆该发光二极体之表面。 11.如申请专利范围第10项所述之发光二极体构造 改良,其中该保护层内尚可设有一色彩转换层。 12.如申请专利范围第11项所述之发光二极体构造 改良,其中该色彩转换层系可选择由一萤光体、磷 光体及其组合式其中之一所组成者。 13.一种发光二极体之构造改良,其主要构造系包括 有: 一晶粒基板; 一固设于该晶粒基板上具有一PN界面之发光二极 体磊晶层,该磊晶层之同一表面部分位置个别设有 一第一电极及一第二电极; 至少一导电片,固设于该第一电极、第二电极及其 组合式之其中之一者;及 至少一引线,可个别固设于该导电片上。 图式简单说明: 第1图:系习用覆晶封装发光二极体之构造截面图; 第2图:系本发明发光二极体一较佳实施例之构造 截面图; 第3图:系本发明又一实施例之构造剖视图; 第4图:系本发明又一实施例之构造剖视图;及 第5图:系本发明又一实施例之构造剖视图。
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