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1.一种图案形成方法,其系为藉由使感光性聚矽胺 烷组成物之涂膜于曝光后显像、形成图案化聚矽 胺烷膜之方法,其特征为使经曝光的感光性聚矽胺 烷涂膜接触相对于基板温度之相对湿度为35%~90%的 含水蒸气之气体后予以显像。 2.如申请专利范围第1项之图案形成方法,其中于与 含水蒸气之气体接触时将感光性聚矽胺烷涂膜加 热。 3.一种感光性聚矽胺烷涂膜之烧方法,其系为使 感光性聚矽胺烷涂膜经烧的方法,其特征为设置 使感光性聚矽胺烷涂膜曝光的工程及接触相对于 基板温度之相对湿度为35%~90%的含水蒸气之气体的 工程作为该烧的前处理工程,且具有将在该烧 的前处理工程中曝光及与含水蒸气之气体接触的 涂膜烧之工程。 4.如申请专利范围第3项之感光性聚矽胺烷涂膜之 烧方法,其中使感光性聚矽胺烷涂膜图案化。 5.如申请专利范围第3项之感光性聚矽胺烷涂膜之 烧方法,其中于加湿处理时将感光性聚矽胺烷涂 膜加热。 6.一种感光性聚矽胺烷组成物,其特征为由含有以 通式:-[SiR6(NR7)1.5]-为基本构成单位、以通式:-[SiR62 NR7]-及∕或[SiR63(NR7)0.5]-所示其它构成单位、且对 基本构成单位而言含有0.1莫耳%~100莫耳%、数量平 均分子量100~100,000之改质聚矽倍半胺烷(其中,R6系 各表示独立的碳数1~3之烷基或经取代或未经取代 的苯基,R7系各表示独立的氢、碳数1~3之烷基或未 经取代的苯基)、与光酸发生剂、与作为形状安定 化剂之水溶性化合物所成。 7.如申请专利范围第6项之感光性聚矽胺烷组成物, 其中光酸发生剂系为选自于亚盐系化合物及 三系化合物。 8.如申请专利范围第6或7项之感光性聚矽胺烷组成 物,其更含有溶解防止剂。 9.如申请专利范围第8项之感光性聚矽胺烷组成物, 其中溶解防止剂系选自于第3-丁氧基碳基化儿茶 酚、第3-丁氧基碳基化氢、二苯甲酮-4,4'-二羧 酸第3-丁酯及4,4'-氧化二苯甲酸第3-丁酯,且对感光 性聚矽胺烷组成物而言含有0.1~40重量%。 10.如申请专利范围第6项之感光性聚矽胺烷组成物 ,其中水溶性化合物系为含有硝基之化合物。 11.如申请专利范围第6项之感光性聚矽胺烷组成物 ,其中水溶性化合物为含有碳酸酯之化合物。 12.如申请专利范围第6项之感光性聚矽胺烷组成物 ,其中另含有增感色素。 13.如申请专利范围第6项之感光性聚矽胺烷组成物 ,其中感光性聚矽胺烷组成物为层间绝缘膜用。 14.一种层间绝缘膜的图案形成方法,其特征为形成 由含有通式:-[SiR6 (NR7)1.5]-为基本构成单位、以通 式:-[SiR62NR7]-及∕或[SiR63(NR7)0.5]-所示其它构成单 位、且对基本构成单位而言含有0.1莫耳%~100莫耳% 、数量平均分子量100~100,000之改质聚矽倍半矽烷( 其中,R6系各表示独立的碳数1~3之烷基或经取代或 未经取代的苯基,R7系各表示独立的氢、碳数1~3之 烷基或未经取代的苯基)、与光酸发生剂、与作为 形状安定化剂之水溶性化合物的涂膜,且在该涂膜 上图案状照射光、使该涂膜经照射的部分溶解除 去、再使图案涂膜于周围气氛中放置或经烧。 图式简单说明: 第1图系为不含形状安定化剂之水溶性化合物的感 光性聚矽胺烷组成物之图案截面侧壁形状的简略 截面图。 第2图系为含形状安定化剂之水溶性化合物的感光 性聚矽胺烷组成物之图案截面侧壁形状的简略截 面图。 第3图系为本发明之感光性组成物所使用的改质聚 矽倍半胺烷之红外线吸收光谱图。 第4图系为本发明实施例所形成的烧膜之红外线 吸收光谱图。 第5图系为比较例所形成的烧膜之红外线吸收光 谱图。 |
