| 主权项 |
1.一种涂布、显影装置,其特征系具备有: 涂布单元,系在基板的表面涂布抗蚀剂; 显影单元,系于上述表面形成液层并将显影液供给 至已液浸曝光后的基板进行显影; 检查单元,系具有载置上述已曝光后的基板之基板 载置部、及检测出用来形成附着于该基板载置部 上的基板表面之至少上述液层的液体之液体检测 部; 控制部,系依据上述液体检测部的检测结果判断是 否使基板乾燥;以及 乾燥手段,系用来乾燥判断为进行乾燥的基板。 2.如申请专利范围第1项之涂布、显影装置,其中, 上述控制部在液体检测部的检测结果与异常状态 对应之结果时,具备输出通知异常之信号至已液浸 曝光的曝光部之功能。 3.如申请专利范围第1项之涂布、显影装置,其中, 上述控制部依据上述液体检测部之检测结果决定 基板的乾燥条件,并且具备依据该乾燥条件控制上 述乾燥手段的乾燥动作之功能。 4.如申请专利范围第1至3项中任一项之涂布、显影 装置,其中,在显影上述曝光后的基板之前,具备加 热处理该基板之加热处理部,至少在进行该加热处 理之前检测出附着于基板表面之液体。 5.如申请专利范围第1至3项中任一项之涂布、显影 装置,其中具备有: 处理部,系分为涂布单元及显影单元;以及 介面部,系与该处理部邻接设计,与液浸曝光基板 的曝光部连接, 上述检查单元及上述乾燥手段设计于该介面部。 6.如申请专利范围第5项中任一项之涂布、显影装 置,其中具备有: 第1基板搬送部,系在处理部与介面部之间进行基 板的收授;以及 第2基板搬送部,系在曝光部与介面部之间进行基 板的收授, 上述检查单元的基板载置部在此等基板搬送部之 间进行基板的收授之际兼作放置基板之收授部。 7.一种涂布、显影方法,系具有: 在基板的表面涂布抗蚀剂,并对于在其表面形成液 层并液浸曝光后的该基板供给显影液加以显影,其 特征在于具备有: 载置上述基板于基板载置部之步骤; 以液体检测部检测出形成附着于该基板的表面之 至少上述液层的液体之步骤; 依据上述液体检测部的检测结果判断是否使基板 乾燥之步骤;以及 藉由乾燥手段来乾燥判断为进行乾燥的基板之步 骤。 8.如申请专利范围第7项之涂布、显影方法,其中包 含有: 判断是否乾燥上述基板之步骤;以及 当液体检测部的检测结果为与异常状态对应之结 果时,输出通知异常之信号至已液浸曝光的曝光部 之步骤。 9.如申请专利范围第7项之涂布、显影方法,其中, 判断是否乾燥上述基板之步骤系包含决定所乾燥 的基板之乾燥条件之步骤, 上述乾燥手段依据该乾燥条件使基板乾燥。 10.如申请专利范围第7至9项中任一项之涂布、显 影方法,其中,在显影上述曝光后的基板之前包含 加热处理该基板之步骤,至少在进行该加热处理之 前进行附着于基板的表面之液体的检测。 图式简单说明: 第1图系显示本发明之涂布、显影装置之实施形态 的平面图。 第2图系显示本发明之涂布、显影装置之实施形态 的斜视图。 第3图系显示上述涂布、显影装置之介面部的斜视 图。 第4图系显示组装于上述涂布、显影装置之乾燥单 元的纵剖面图。 第5图系显示组装于上述涂布、显影装置之检查单 元的纵剖面图。 第6图系显示上述涂布、显影装置之控制功能的说 明图。 第7图系显示组装于上述涂布、显影装置之涂布单 元的纵剖面图。 第8图系显示组装于上述涂布、显影装置之显影单 元的纵剖面图。 第9图系显示组装于上述涂布、显影装置之加热单 元的纵剖面图。 第10图系显示在上述涂布、显影装置处理晶圆的 纵剖面图。 第11图系结束涂布处理之晶圆的说明图。 第12图系显示上述涂布、显影装置之介面部的其 他例之说明图。 第13图系显示上述检查单元之液体检测部的其他 例之说明图。 第14图系说明上述乾燥单元之乾燥手段的其他例 之说明图。 第15图与晶圆表面的抗蚀剂进行液浸曝光之手法 之说明图。 第16图系与晶圆表面的抗蚀剂相对进行液浸曝光 之手法的说明图。 |
