| 主权项 |
1.一种液晶装置用基板,是在基板的表面,设有:由 平坦状区域所形成的平坦区域、及形成有微细状 山部与谷部的粗面区域,前述粗面区域内的前述山 部,其顶上部为含有前述平坦区域的平面以下之高 度的液晶装置用基板,其特征为: 在前述平坦区域内的局部与前述粗面区域之前述 基板表面,分别形成材料相同的金属膜,并由该金 属膜在前述粗面区域形成用于反射型显示的反射 膜,且由该金属膜在前述平坦区域形成有指定的标 记。 2.如申请专利范围第1项之液晶装置用基板,其中前 述指定的标记,系校正标记。 3.如申请专利范围第1项之液晶装置用基板,其中前 述指定的标记,系工程管理标记。 4.如申请专利范围第1项之液晶装置用基板,其中在 前述平坦区域形成有配线。 5.如申请专利范围第1项之液晶装置用基板,其中在 前述平坦区域形成有密封材。 6.如申请专利范围第1、2、3、4或5项之液晶装置用 基板,其中前述粗面区域之最大高度Ry系0.2至3m 、前述算术平均粗糙度Ra系0.02至0.3m、前述十点 平均粗糙度Rz系0.1至2.5m,前述平均波长Sm系4至60 m。 7.如申请专利范围第1、2、3、4或5项之液晶装置用 基板,其中前述粗面区域之最大高度Ry系1.5至2.0m 、前述算术平均粗糙度Ra系0.15至0.3m、前述十点 平均粗糙度Rz系1.3至1.8m,前述平均波长Sm系15至25 m。 8.如申请专利范围第1、2、3、4或5项之液晶装置用 基板,其中前述粗面区域之最大高度Ry系0.7至1.2m 、前述算术平均粗糙度Ra系0.1至0.2m、前述十点 平均粗糙度Rz系0.5至1.0m,前述平均波长Sm系35至50 m。 9.如申请专利范围第1、2、3、4或5项之液晶装置用 基板,其中前述粗面区域之最大高度Ry系0.6至1.2m 、前述算术平均粗糙度Ra系0.05至0.15m、前述十 点平均粗糙度Rz系0.5至1.0m,前述平均波长Sm系15 至25m。 10.如申请专利范围第1、2、3、4或5项之液晶装置 用基板,其中前述粗面区域之最大高度Ry系0.4至1.0 m、前述算术平均粗糙度Ra系0.04至0.10m、前述 十点平均粗糙度Rz系0.3至0.8m,前述平均波长Sm系8 至15m。 11.如申请专利范围第1、2、3、4或5项之液晶装置 用基板,其中前述粗面区域之最大高度Ry系0.8至1.5 m、前述算术平均粗糙度Ra系0.05至0.15m、前述 十点平均粗糙度Rz系0.7至1.3m,前述平均波长Sm系8 至15m。 12.一种液晶装置,其特征为: 挟持液晶层来构成液晶装置的一对基板中的其中 一方的基板,是申请专利范围第1至11项之任一项之 液晶装置用基板,前述液晶装置用基板之形成前述 平坦区域及前述粗面区域的基板表面,是配置成前 述液晶层侧。 13.一种液晶装置的制造方法,系于一对基板间挟持 液晶层而成的液晶装置的制造方法,其特征为: 具有: 将前述一对基板之中,位于观察侧的相反侧之一方 基板之前述液晶层侧的表面的一部份,藉由遮罩材 覆盖的工程;和 在前述表面之中,由前述遮罩材所覆盖之区域以外 的区域具有微细状的山部与谷部,对由前述遮罩材 所覆盖之区域以外的区域进行粗化,而使前述山部 的顶上部形成包含由前述遮罩材覆盖之区域的平 面以下的高度的工程;和 去除前述遮罩材的工程;和 在前述基板表面形成金属膜的工程;和 藉由去除前述金属膜,使前述金属膜残留于前述经 粗化后的区域、及被前述之遮罩构件所覆盖之区 域内的部分区域,而同时分别在被前述遮罩材所覆 盖的区域内形成指定标记,及在前述经粗面化的区 域内形成反射型显示所采用之反射膜的工程;及 以该粗面区域与另一方基板相对方向的方式,接合 前述一对基板的工程。 14.如申请专利范围第13项之液晶装置的制造方法, 其中前述一方基板,含有:具有网状形状的第1组成 物、及存在于该第1组成物之网间的第2组成物, 前述粗面化的工程,是使用于前述第1组成物与前 述第2组成物处形成不同溶出速度的处理液,对前 述一方基板施以蚀刻,藉此在由前述遮罩材所覆盖 之区域以外的区域,形成对应前述第1组成物之形 状的前述山部及谷部。 15.如申请专利范围第13项之液晶装置之制造方法, 其中前述粗面化工程,是藉由隔着前述遮罩材使粒 状构件冲击前述一方基板的表面,而在由该遮罩材 所覆盖之区域以外的区域形成前述山部及谷部。 16.如申请专利范围第13、14或15项之液晶装置的制 造方法,其中在前述遮罩材的去除工程之后,对由 该遮罩材所覆盖之区域以及经前述粗面化的区域 施以蚀刻。 17.一种液晶装置用基板之制造方法,其特征为:具 有: 藉由遮罩材覆盖基板表面之局部的工程;和 在前述表面之中,由前述遮罩材所覆盖之区域以外 的区域具有微细状的山部与谷部,对由前述遮罩材 所覆盖之区域以外的区域进行粗化,而使前述山部 的顶上部形成包含由前述遮罩材覆盖之区域的平 面以下的高度的工程;和 去除前述遮罩材的工程;和 在前述基板表面形成金属膜的工程;和 藉由去除前述金属膜,使前述金属膜残留于前述经 粗化后的区域、及被前述遮罩构件所覆盖之区域 内的部分区域,而同时分别在被前述遮罩材所覆盖 的区域内形成指定标记,及在前述经粗面化的区域 内形成反射型显示所采用之反射膜的工程。 18.如申请专利范围第17项之液晶装置用基板之制 造方法,其中前述基板,含有:具有网状形状的第1组 成物、及存在于该第1组成物之网间的第2组成物, 前述粗面化的工程,是使用于前述第1组成物与前 述第2组成物处形成不同溶出速度的处理液,对前 述基板施以蚀刻,藉此在由前述遮罩材所覆盖之区 域以外的区域形成对应前述第1组成物之形状的前 述山部及谷部。 19.如申请专利范围第17项之液晶装置用基板之制 造方法,其中前述粗面化工程,是藉由隔着前述遮 罩材使粒状构件冲击前述基板的表面,而在由该遮 罩材所覆盖之区域以外的区域形成前述山部及谷 部。 20.如申请专利范围第17、18或19项之液晶装置用基 板之制造方法,其中在前述遮罩材的去除工程之后 ,对由该遮罩材所覆盖之区域以及经前述粗面化的 区域施以蚀刻。 图式简单说明: 第1A图为表示于本发明第1实施形态相关之液晶显 示装置制造步骤中,玻璃基板上光致抗蚀所形成之 样子平面图。 第1B图为第1A图中A-A'线剖视图。 第1C图为表示于本发明第1实施形态相关之液晶显 示装置制造步骤中,玻璃基板表面所粗糙面化之样 子剖视图。 第1D图为表示于本发明第1实施形态相关之液晶显 示装置制造步骤中,玻璃基板上光致抗蚀除去后之 样子剖视图。 第1E图为表示于本发明第1实施形态相关之液晶显 示装置制造步骤中,玻璃基板上金属膜所形成样子 之剖视图。 第1F图为表示于本发明第1实施形态相关之液晶显 示装置制造步骤中,玻璃基板上反射膜及校正标记 所形成样子之剖视图。 第2图为形成在玻璃基板上平坦区域之校正标记以 光学显微镜所摄影之照片。 第3A图为表示于本发明第2实施形态相关之液晶显 示装置制造步骤中,玻璃基板上光致抗蚀所形成之 样子平面图。 第3B图为第3A图中B-B'线剖视图。 第3C图为表示于本发明第2实施形态相关之液晶显 示装置制造步骤中,玻璃基板表面所粗糙面化之样 子剖视图。 第3D图为表示于本发明第2实施形态相关之液晶显 示装置制造步骤中,玻璃基板上光致抗蚀除去后之 样子剖视图。 第3E图为表示于本发明第2实施形态相关之液晶显 示装置制造步骤中,玻璃基板上金属膜所形成样子 之剖视图。 第3F图为表示于本发明第2实施形态相关之液晶显 示装置制造步骤中,玻璃基板上反射膜及校正标记 所形成样子之剖视图。 第4A图为表示于本发明第3实施形态相关之液晶显 示装置制造步骤中,玻璃基板上光致抗蚀所形成之 样子平面图。 第4B图为第4A图中C-C'线剖视图。 第4C图为表示于本发明第3实施形态相关之液晶显 示装置制造步骤中,玻璃基板表面所粗糙面化之样 子剖视图。 第4D图为表示于本发明第3实施形态相关之液晶显 示装置制造步骤中,玻璃基板上光致抗蚀除去后之 样子剖视图。 第4E图为表示于本发明第3实施形态相关之液晶显 示装置制造步骤中,玻璃基板上金属膜所形成样子 之剖视图。 第4F图为表示于本发明第3实施形态相关之液晶显 示装置制造步骤中,玻璃基板上反射膜及校正标记 所形成样子之剖视图。 第5A图为表示玻璃基板之组成模式剖视图。 第5B图为表示于本发明相关液晶装置用基板之第1 制造方法中,遮罩材所形成之样子剖视图。 第5C图为表示于上述之第1制造方法中,玻璃基板施 以第1蚀刻之样子剖视图。 第5D图为表示于上述之第1制造方法中,玻璃基板上 遮罩材除去后之样子剖视图。 第5E图为表示于上述之第1制造方法中,玻璃基板施 以第2蚀刻之样子剖视图。 第6A图为于上述之第1制造方法中经第1蚀刻后之玻 璃基板表面以光学显微镜所摄影之照片。 第6B图为于上述之第1制造方法中经第2蚀刻后之玻 璃基板表面以光学显微镜所摄影之照片。 第7图为藉由上述之第1制造方法所形成粗面区域 及平坦区域之样子以光学显微镜所摄影之照片。 第8图为表示藉由上述之第1制造方法所形成粗面 区域及平坦区域之高度测定结果图表。 第9A图为表示玻璃基板之组成模式剖视图。 第9B图为表示于本发明相关液晶装置用基板之第2 制造方法中,遮罩材所形成之样子剖视图。 第9C图为表示于上述之第2制造方法中蚀刻过程之 样子剖视图。 第9D图为表示于上述之第2制造方法中蚀刻结束后 之样子剖视图。 第9E图为表示于上述之第2制造方法中,玻璃基板上 遮罩材除去后之样子剖视图。 第10A图为表示于本发明相关液晶装置用基板之第3 制造方法中,玻璃基板上配置不锈钢之样子平面图 。 第10B图为第10A图中D-D'线剖视图。 第10C图为表示于上述之第3制造方法中,对玻璃基 板表面喷涂有研磨粉之样子剖视图。 第10D图为表示于上述之第3制造方法中,玻璃基板 上形成有粗面区域及平坦区域之样子剖视图。 第10E图为表示于上述之第3制造方法中,玻璃基板 上形成有金属膜之样子剖视图。 第10F图为表示于上述之第3制造方法中,玻璃基板 上形成有反射膜及校正标记之样子剖视图。 第11图为表示习知液晶装置用基板粗糙面之扩大 剖视图。 第12图为表示测定本发明相关液晶装置用基板反 射特性之测定装置组成范例图。 第13图为表示本发明相关液晶装置用基板反射特 性之图表。 第14图为表示使用本发明相关液晶装置用基板之 液晶装置组成范例剖视图。 第15图为表示使用本发明相关液晶装置用基板之 液晶装置之其他组成范例剖视图。 第16A图为表示使用本发明相关液晶装置之笔记型 电脑范例透视图。 第16B图为表示使用本发明相关液晶装置之行动电 话范例透视图。 第16C图为表示使用本发明相关液晶装置之手表范 例透视图。 |
