被覆膜形成用组成物,图型形成方法,被覆膜及其去除方法

摘要

本发明之被覆膜形成用组成物，其系含有(A)式(1)、(2) X–Y–SiZ3 (1)(Z表示水解性基，X表示未被取代之羟基、取代或未取代之环氧基、取代或未取代之有机交联性官能基，Y表示单键或2价(与构成环氧基之2个碳的两者结合时为3价)之烃基) RnSiZ4–n (2)(Z表示水解性基，R表示氢原子或1价烃基，n为0～3的整数)所示之水解性矽烷的共水解缩合物，可以式(1)之有机交联性官能基进行交联反应之矽酮树脂(B)交联剂(C)酸产生剂(D)有机溶剂。若依本发明之组成物，可得到保存安定性，填充特性、密黏性、涂膜之均一性优，且对剥离液之溶解性高之被覆膜。