蚀刻制程以及图案化制程

摘要

一种蚀刻制程，其系首先提供一材料层，且材料层上已形成有一底部抗反射层以及一图案化光阻层。接着，以图案化光阻层为蚀刻罩幕，蚀刻底部抗反射层。然后，进行一清洁步骤，以清除附着在图案化光阻层表面上的聚合物。之后，以图案化光阻层为蚀刻罩幕，蚀刻材料层。