| 主权项 |
1.一种辐射源,其包含一阳极与一阴极,系配置成在 该阳极与阴极之间一放电空间内的一物质中产生 一放电,并且形成一电浆,从而产生电磁辐射;其中 定义该放电空间之侧壁的吸收表面区域具有一吸 收功能,用以将一液体从与该吸收表面区域接触的 一液体贮存器传送至该放电空间。 2.如申请专利范围第1项之辐射源,其中该吸收表面 区域系配置于至少该阳极与该阴极之一上。 3.如申请专利范围第1或2项之辐射源,其中定义该 放电空间的侧壁之冷却表面区域具有一冷却功能, 用于使来自于该放电空间的汽化液体冷凝,以便将 热从该放电空间传送至该冷却表面。 4.如申请专利范围第1或2项之辐射源,其中该液体 中包含的一材料系用于生成该电浆。 5.如申请专利范围第1或2项之辐射源,其中该放电 空间具有一拉长的延伸空间,该冷却表面区域系配 置于该延伸空间的侧壁上,离该辐射源的一中央区 域有一距离。 6.如申请专利范围第1或2项之辐射源,其中该辐射 源包含一高能光束,其用于照射最接近该放电空间 的该吸收表面区域。 7.如申请专利范围第6项之辐射源,其中该高能光束 系一带电粒子光束。 8.如申请专利范围第6项之辐射源,其中该高能光束 系一雷射光束。 9.如申请专利范围第1或2项之辐射源,其中该液体 包含一选自氙(Xe)、锡(Sn)、锂(Li)、铟(In)及铱(Ir) 所组成的该群组中的元素。 10.一种辐射源,其包含一阳极与一阴极,系配置成 在该阳极与阴极之间一放电空间内的一物质中产 生一放电,并且形成一电浆,从而产生电磁辐射;其 中该放电空间具有一拉长的延伸空间,定义该延长 空间之侧壁的冷却表面区域具有一冷却功能,用以 使来自于该放电空间的汽化液体冷凝;并且该冷却 表面区域系在离该辐射源的一中央区域的一距离 处配置。 11.如申请专利范围第10项之辐射源,其中该液体包 含一选自氙(Xe)、锡(Sn)、锂(Li)、铟(In)及铱(Ir)所 组成的该群组中的元素。 12.一种辐射源单元,其包含: 一辐射源,其具有一阳极与一阴极,系配置成在该 阳极与阴极之间一放电空间内的一物质中产生放 电,以形成一电浆,以便产生电磁辐射;以及 一配置于该辐射源一光学轴上的中空收容器,该收 容器的一开口端系导向该辐射源,用于捕获从该辐 射源排出的污染物。 13.如申请专利范围第12项之辐射源,其中该收容器 具有一冷却功能,用于对该收容器内壁上的污染物 进行增强截获。 14.一种辐射源,其包含:一阳极与一阴极,其系配置 成在该阳极与阴极之间一放电空间内的一物质中 产生一放电,以形成一电浆,以便产生电磁辐射;一 孔配置于该阳极与阴极之一中,该电磁辐射经由该 孔发射, 其中该孔包含复数个导电结构,其虽然系配置成使 该孔对该辐射实质上保持开启,但其实质上电性封 闭该孔。 15.如申请专利范围第14项之辐射源,其中该等结构 系冷却的。 16.一种辐射源,其包含一阳极与一阴极,系配置成 在该阳极与阴极之间一放电空间内的一物质中产 生一放电,以形成一电浆,以便产生电磁辐射;其中 该辐射源包含至少一个封闭热管。 17.一种微影投影装置,其包括: 一辐射系统,其用于提供一辐射投影光束; 一支撑结构,其用以支撑图案化构件,该图案化构 件则用于根据一所需图案将该投影光束图案化; 一基板台,其用于固定一基板; 一投影系统,其用于将该图案化的光束投影在该基 板的一目标部分上, 其中该辐射系统包含如申请专利范围第1至16项中 任一项之一辐射源或辐射源单元。 18.一种元件制造方法,其包括下列步骤: 提供至少部分由一层辐射敏感材料所覆盖之一基 板; 使用一辐射系统提供一辐射投影光束,该辐射系统 包含如申请专利范围第1至16项中任一项之一辐射 源或辐射源单元; 使用图案化构件赋予投影光束一图案式之断面; 将图案化之辐射光束投影至辐射敏感材料层之一 目标部分。 图式简单说明: 图1显示一微影投影装置,其包含根据本发明的一 辐射源单元; 图2A至2B显示一辐射源单元,其包含根据本发明的 一开启的热管结构,其中图2B显示图2A的中心部分; 图3A至3C显示根据本发明的一阳极,其中图3B及3C显 示断面B-B的两个具体实施例; 图4A至4C显示根据本发明另一具体实施例的一阳极 ,其中图4B及4C分别显示断面C-C及D-D的两个具体实 施例; 图5A至5C显示根据本发明另一具体实施例的一阳极 ,其中图5B及5C分别显示断面E-E及F-F的两个具体实 施例; 图6作为一范例显示一封闭的热管之基本元件及操 作; 图7A至7E作为一范例显示中空阴极型在各放电阶段 之放电;以及 图8作为一范例显示一掠入射收集器之基本元件及 操作。 |
