| 主权项 |
1.一种即时之粒子之分类及/或操作系统,包括: 一基板,具有一微流道,该微流道系用以供一流体 于其内流动,该流体内有复数个粒子,该微流道上 具有一辨识区; 一电源供应器,电气连接至该基板,用以提供驱动 该流体所需之电力; 一数位影像处理装置,用以即时辨识该微流道内流 经该辨识区之粒子,而产生一辨识结果;及 一光钳装置,根据该辨识结果而作动,用以处理该 辨识过之粒子。 2.如请求项1之系统,其中该等粒子系为细胞。 3.如请求项1之系统,其中该等粒子系为细菌。 4.如请求项1之系统,其中该等粒子系为血球。 5.如请求项1之系统,其中该基板之材质系为玻璃。 6.如请求项1之系统,其中该基板之材质系为矽。 7.如请求项1之系统,其中该基板之材质系为高分子 。 8.如请求项1之系统,其中该微流道包括: 一主流道,用以供该流体于其内流动,具有该辨识 区; 一第一缓冲液流道,连接该主流道,用以注入一第 一缓冲液至该主流道; 一第二缓冲液流道,连接该主流道,用以注入一第 二缓冲液至该主流道,该第一缓冲液及该第二缓冲 液之注入,可将该流体之流动压缩至单一粒子之宽 度,使得该等粒子可于该辨识区中依序排列流动前 进; 一第一分流道,连接该主流道,用以导出分类后之 复数个第一粒子;及 一第二分流道,连接该主流道,用以导出分类后之 复数个第二粒子。 9.如请求项8之系统,其中该第一缓冲液流道及该第 二缓冲液流道分别与该主流道垂直。 10.如请求项8之系统,其中该第一缓冲液流道及该 第二缓冲液流道分别与该主流道斜交。 11.如请求项8之系统,其中该第一分流道及该第二 分流道分别与该主流道垂直。 12.如请求项8之系统,其中该第一分流道及该第二 分流道分别与该主流道斜交。 13.如请求项1之系统,其中该数位影像处理装置包 括: 一第一光源,用以产生一第一光束,且投射至该基 板上之辨识区; 一CCD摄影机,用以撷取该基板辨识区附近之影像; 及 一处理单元,用以接受该CCD摄影机所传来之影像, 且处理该影像后产生该辨识结果。 14.如请求项13之系统,该处理单元具有一图型使用 者介面,该图型使用者介面包括: 一分类器,系用以设定所欲分类之粒子类型; 一计数器,系为计算之结果;及 一显示模组,显示该辨识区附近之即时影像,该辨 识区之大小系可调整。 15.如请求项1之系统,其中该该光钳装置包括: 一第二光源,用以产生一雷射光束,而聚焦至该基 板上之一聚焦区;及 一电子快门,其可遮断该雷射光束,用以控制该雷 射光束导通的时间点,且该电子快门系电气连接至 该数位影像处理装置,而接受该数位影像处理装置 之控制来决定该雷射光束导通的时间点。 16.如请求项15之系统,其中该雷射光束系选自由半 导体雷射、宝石雷射、固态雷射及气体雷射所组 成之群。 17.如请求项1之系统,其中该光钳装置系吸引该辨 识过之粒子。 18.如请求项1之系统,其中该光钳装置系破坏该辨 识过之粒子。 图式简单说明: 图1显示本发明即时之粒子之分类及/或操作系统 之较佳实施例之示意图; 图2显示本发明中基板之俯视示意图; 图3显示本发明中处理单元内之即时影像辨识之图 型使用者介面之示意图;及 图4a至4f显示本发明中基板之制程之较佳实施例之 示意图。 |
